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2021-06-30 00:00:00.0
限界を計測する・極限を分析する　【東京電子オンラインEXPO】オープン！

企業ニュース   掲載開始日: 2021-06-30 00:00:00.0

東京電子がオンラインで開催する【東京電子オンラインEXPO】がオープンとなりました！

ガス分析計や、新しい真空構造材などを展示しています。
是非お立ち寄りください。

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  • 東京電子オンラインEXPO

    東京電子が開催するオンラインEXPO
    ガス分析計や、新しい真空構造材を展示しております。

関連製品情報

真空チャンバー内壁からのガス放出を大幅低減！新しい「真空構造材」
真空チャンバー内壁からのガス放出を大幅低減！新しい「真空構造材」 製品画像
0.2％BeCu合金製で低ガス放出化を実現！ステンレススチールの代替えに。

『魔法のニップル／キューブ／チャンバー』は素材にBeCu合金を使用することで従来の真空系を構成するステンレススチールに代わり、内壁からのガス放出を大幅に低減する新たな真空構造材です。 BeCu合金は、輻射率が低く、熱伝導率に優れるため、わずかに吸収した熱も速やかに拡散し、温度上昇を抑えることでガス放出スピードを1/10以下に低減することが出来ます。 【特長】 ■到達真空を改善 ■銅表面はNiP不動態化 ■300℃までのベーキングに対応可能 ■銅ガスケットを使用可能 ※詳しくはPDFダウンロードより資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合せください。
多様な質量分析を可能にする東京電子のラインナップ
多様な質量分析を可能にする東京電子のラインナップ 製品画像
極微量ガス分析から大気圧サンプリングまで、単体での計測からシステムアップした分析装置として、高性能なモデルをそろえた質量分析計！

多様な質量分析を可能にする東京電?のラインナップをご紹介します。具体的にはこのような質量分析が可能になります。 【特徴】 ■E-15Pa・m3/secの極微量ガス分析が可能 ■極?真空下におけるE-13Pa台の?精度質量分析 ■?素・?分の?精度計測 ■?気圧リアルタイム分析（呼気・燃焼ガスなど） ※多様・?精度な質量分析のメカニズムの詳細はPDFをダウンロードしてご覧ください。
超低ガス放出残留ガス分析計『WATMASS』
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低省費電力化とイオン源の低温化により、ガス放出を大幅低減！一般的な四重極残留ガス分析計での計測が難しいXHVガス分析が可能！

『WATMASS』は、10-7～10-13Pa台の残留ガス分析を高精度で行えるように イオン源を改良した、超低ガス放出残留ガス分析計（質量分析計）です。 熱陰極イオン源および、センサーニップル菅（ICF70）を低輻射／高熱伝導の0.2%BeCu製を採用することで、 低省費電力化とイオン源の低温化により、ガス放出を大幅に低減します。 また、グリッドを白金イリジウム（Pt-Ir）合金で製作することで、ESDガス放出を低減。 電気炉による徹底した低ガス化処理にて水素の排出および、酸化Be層を形成します。 【アプリケーション例】 ■XHV／UHVの高精度な質量分析 ■表面分析 ■半導体デバイスの劣化とガス放出 ■光刺激、電子刺激によって発生するガス分析（質量分析） ■微量ガス分析（TDS／Out Gas） ■封止デバイス／MEMSの質量分析および、10-17Pa・m3／sレベルのリーク試験 ■ガラスのHe透過試験および、微小気泡ガス分析 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
電源装置『アーク抑制型HF-HiPIMS用パルス電源 』
電源装置『アーク抑制型HF-HiPIMS用パルス電源 』 製品画像
【限定5社デモ機受付中】アーク異常放電を抑制し成膜不良を激減！平均電力アップにより成膜レートを向上させた画期的なパルス電源！

スパッタリングの最大の課題であるアーク異常放電を抑制する機能とHiPIMSの最大の課題である成膜レートを向上させる機能(特許取得済)を備えたHIPIMS用パルス電源です。 弊社独自のHF(High Frequency)モードはHiPIMSの波形の後段にHFパルスを入れることでターゲットのチャージアップをキャンセルし、アークレスな成膜を実現！ アーク異常放電を起こさないことにより平均電力をアップさせることができ成膜レートの向上をさせることができます。 【特長】 ■HFモードでアーク異常放電を抑制させ、成膜不良を低減 ■3段階パルスによりパルス幅が広がり平均電力がアップ ■アークカットではなく抑制する方法でカット時間をなくし成膜レートが向上 ■後段のHFパルスによりアフターグローが長くなり成膜レートの向上 ※詳しくはお問い合わせいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。

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