株式会社ウェーブフロント 本社

2017-11-13 00:00:00.0

掲載開始日: 2017-11-13 00:00:00.0

セミナー・イベント

半導体関連装置向け解析シミュレーションソフト 無料紹介セミナー・随時開催中♪

弊社では、弊社取り扱い製品に関心をお持ちの皆様に無料で
各ソフトウェアの詳細、活用事例等のご紹介をさせて頂いております。

特に、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っておりますので
適用事例・デモンストレーション等を、弊社の今までの実績を交えて分かりやすく紹介いたします。

無料セミナーのご希望は下記
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開催日程・時間につきましては、お客様のご希望に応じ、
フレキシブルに対応させて頂きますので、お気軽にお問い合せ下さい。

【セミナー概要・セミナーお申し込みフォーム】
http://www.wavefront.co.jp/seminar/CAE.html

◇主なソフト◇
半導体関連装置向け解析シミュレーションソフト
・DSMC-Neutrals (3次元希薄気体解析ソフトウェア)
・Particle-Plus (粒子法による低圧プラズマシミュレーションソフトウェア)




開催日時 2017年10月01日(日) ~ 2021年12月31日(金)
14:00 ~ 17:00
会場 ■株式会社ウェーブフロント セミナールーム■

〒220-6112
神奈川県横浜市西区みなとみらい2-3-3クイーンズタワ-B 12階
株式会社ウェーブフロント

TEL 045-682-7070 (代) 

地図
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参加費 無料
関連製品情報
【半導体向け】解析シミュレーションソフト ※カタログ進呈 製品画像

工数・コスト削減に!薄膜生成、スパッタリング、プラズマエッチングなどの様々なシミュレーションに対応可能。導入後のサポートも安心。

当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。 希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、 有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションで活躍中です。 「新商品開発をしたい」「製品改善時に実機(装置)を作って検証したい」 「事前検証,装置との比較検証をしたい」などでお困りの方に。 また、自社開発製品のため、導入後も手厚くサポートいたします。 【ラインナップ/特長】 《希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』》 ■非構造メッシュに対応しているため、複雑な形状の計算に対応 ■装置内全体のガス流れのシミュレーションが可能 《プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』》 ■低圧のプラズマシミュレーションが可能 ■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

3D希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』 製品画像

低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり,品質の悪い計算格子が有っても,必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子(原子)交換反応計算 ・GUI 上で,複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』 製品画像

『Particle-PLUS』 はプラズマ反応炉や化学蒸着(CVD)などのシミュレーションに適したプラズマ解析ソフトウエアです。

Particle-PLUSは、粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです。プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに有効なソフトです。二周波CCPや外部回路モデルなどの高度な物理モデルに対する解析も可能です。充実したサポートによりシミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことができます。プラズマを解析するのに粒子モデルを用い、電子・イオンを代表する粒子の運動を追跡するPIC / MC (Particle In Cell / Mote Carlo)法を採用しております。また、対象プラズマ密度に応じて比較的高密度では陰解法を、低密度では陽解法と使い分けることにより、複雑なモデルでも効率良く解くことができます。特に流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします。標準機能でのCCP、ICP、マグネトロンスパッタ計算はもちろんのこと、お客様の装置にあわせたカスタマイズも行っております。

自動車用スパークプラグシミュレーション『VizSpark』 製品画像

従来では困難だった自動車用スパークプラグのアークプラズマ解析も可能なシミュレーションソフトウェアです。

VizSparkは、プラズマシミュレーションの専門家、テキサス大学オースティン校のRaja教授が設立した、米国Esgee Technologies社によって開発された、アークプラズマシミュレーションソフトウェアです。 スパークプラグ及び遮断器での解析に最も多くの実績があり、学会においても多くの事例が発表されております。 国内でも完成車メーカー、内燃機関関連メーカーを中心に多くの実績があり、以下のような装置の解析に対応しています。 ・遮断機 ・大気圧放電 ・点火プラグ(スパークプラグ) ・プラズマトーチ(プラズマジェット) ・溶接 ・溶射 ・高輝度ランプ

シャワーヘッド型CVDの解析ソフト『DSMC-Neutrals』 製品画像

「シャワーヘッド型CVD」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

シャワーヘッド型CVD装置内のガス流れのシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり,品質の悪い計算格子が有っても,必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子(原子)交換反応計算 ・GUI 上で,複数の反応式を設定も可能 ※受託解析もしておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。

自動車用点火プラグシミュレーション『VizSpark』 製品画像

従来では困難だった自動車用点火プラグのアークプラズマ解析も可能なシミュレーションソフトウェアです。

VizSparkは、プラズマシミュレーションの専門家、テキサス大学オースティン校のRaja教授が設立した、米国Esgee Technologies社によって開発された、アークプラズマシミュレーションソフトウェアです。 点火プラグ及び遮断器での解析に最も多くの実績があり、学会においても多くの事例が発表されております。 国内でも完成車メーカー、内燃機関関連メーカーを中心に多くの実績があり、以下のような装置の解析に対応しています。 ・遮断機 ・大気圧放電 ・点火プラグ(スパークプラグ) ・プラズマトーチ(プラズマジェット) ・溶接 ・溶射 ・高輝度ランプ

高速汎用プラズマ解析ソフトウェア『VizGlow』 製品画像

プラズマシミュレーションの専門家、テキサス大学オースティン校のRaja教授によって開発されたソフトウェアです。

VizGlowはプラズマシミュレーションの専門家、テキサス大学オースティン校のRaja教授が設立した、米国Esgee Technologies社によって開発された、汎用プラズマシミュレーションソフトウェアです。

半導体関連装置向け解析シミュレーションソフト 製品画像

ガス流れや薄膜生成のシミュレーションに。大規模形状でも短時間計算

当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。 希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、 有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションに活躍。 お客様のニーズに合わせた対応も可能です。 【ラインナップ】 《希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』》 ■非構造メッシュに対応しているため、複雑な形状の計算に対応 ■装置内全体のガス流れのシミュレーションが可能 《プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』》 ■低圧のプラズマシミュレーションが可能 ■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに この2つのシステムで、半導体製造における薄膜生成、スパッタリング、 プラズマエッチングなどの様々なシミュレーションに対応可能です。 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

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