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関連情報
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< 洗浄工程 >
・ 界面活性剤・純粋スクラブ洗浄
・ 薬液スプレー
・ メガソニックスポットシャワー
・ スピン乾燥
< 洗浄対象物 >
各種ウェハ
・ Si(シリコン)
・ 石英
・ 酸化物
・ 化合物等
< 対応ウエハ口径 >
・ φ2”~φ4”
・ φ6”~φ8”
< その他 >
単機能のスクラブ洗浄装置、薬液の使用、
ドライ・ウェットのローダー・アンローダー付タイプ、
複数チャンバータイプなど、ご予算・ご要望に応じて対応致します。
洗浄方法についてのご相談など、お気軽にご相談ください。
・ 界面活性剤・純粋スクラブ洗浄
・ 薬液スプレー
・ メガソニックスポットシャワー
・ スピン乾燥
< 洗浄対象物 >
各種ウェハ
・ Si(シリコン)
・ 石英
・ 酸化物
・ 化合物等
< 対応ウエハ口径 >
・ φ2”~φ4”
・ φ6”~φ8”
< その他 >
単機能のスクラブ洗浄装置、薬液の使用、
ドライ・ウェットのローダー・アンローダー付タイプ、
複数チャンバータイプなど、ご予算・ご要望に応じて対応致します。
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【用途例】
・異物(有機物、無機物)の除去
・金属イオンの除去
【洗浄工程】
・界面活性剤、純水スクラブ洗浄
・薬液スプレー
・メガソニックスポットシャワー
・スピン乾燥
【洗浄対象物】
各種ウェハ
・Si(シリコン)
・石英
・酸化物
・化合物 など
※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
・異物(有機物、無機物)の除去
・金属イオンの除去
【洗浄工程】
・界面活性剤、純水スクラブ洗浄
・薬液スプレー
・メガソニックスポットシャワー
・スピン乾燥
【洗浄対象物】
各種ウェハ
・Si(シリコン)
・石英
・酸化物
・化合物 など
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株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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