画期的なゼストロン独自のMPCテクノロジーにより、フラックスを洗浄液中から分離しフィルター除去します。
溶剤の場合は洗浄液中に溶解するため、定期的な洗浄液の廃棄更新が必要になりますが、MPCテクノロジーではフラックスは液中に溶け込みません。
従って5～10μm程度のフィルターで系外へ除去可能で、洗浄液は継ぎ足しのみで使用できます。
洗浄液の特徴として、水系のため、溶剤のようにたちまち揮発するということはありません。
そのため使用量が低減できるのはもちろんのこと、臭気も驚くほど少なく、作業環境の改善にも役立ちます。
また約25%程度に希釈して使用しますのでコスト面でも有利です。
メタルマスク洗浄ではIPAが安価なため広く用いられていますが、揮発が少なく、コンタミをフィルター除去できるため、使用方法によってはIPAよりもコスト低減が可能です。
更に、pH中性のため鉛がほとんど溶解せず（ペースト10g/L混入後の濾過液分析で検出限界以下）、鉛フリーメタルマスクと共晶メタルマスクの洗浄装置を共用することが可能です。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
溶剤の場合は洗浄液中に溶解するため、定期的な洗浄液の廃棄更新が必要になりますが、MPCテクノロジーではフラックスは液中に溶け込みません。
従って5～10μm程度のフィルターで系外へ除去可能で、洗浄液は継ぎ足しのみで使用できます。
洗浄液の特徴として、水系のため、溶剤のようにたちまち揮発するということはありません。
そのため使用量が低減できるのはもちろんのこと、臭気も驚くほど少なく、作業環境の改善にも役立ちます。
また約25%程度に希釈して使用しますのでコスト面でも有利です。
メタルマスク洗浄ではIPAが安価なため広く用いられていますが、揮発が少なく、コンタミをフィルター除去できるため、使用方法によってはIPAよりもコスト低減が可能です。
更に、pH中性のため鉛がほとんど溶解せず（ペースト10g/L混入後の濾過液分析で検出限界以下）、鉛フリーメタルマスクと共晶メタルマスクの洗浄装置を共用することが可能です。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
