アンシス・ジャパン株式会社

Ansys顧客事例 - 東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ株式会社 様

最終更新日: 2022-01-24 16:31:20.0

最先端プラズマプロセス成膜装置開発に貢献する電磁界シミュレーション
東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ株式会社は、半導体製造プロセスにおいてウエハーの表面に薄膜を付ける成膜技術を担う企業だ。半導体製造においては一般に3D化と呼ばれる、ウエハー上に何層も繰り返し膜を積んでいく成膜技術や、微細化技術が一層進んでいる。さらに成膜プロセスの低温化も進んでおり、プラズマを利用した成膜プロセスの重要度が増している。半導体製造において、顧客である半導体メーカーの要求は多種多様であり、それぞれ個別に対応するプラズマ装置を開発する必要がある。電磁界シミュレーションツールを用いることで、こうしたプラズマ装置開発を促進することができる。

<Ansysの個人情報の取り扱いについて>
登録することにより、この プライバシー通知 (https://www.ansys.com/ja-jp/legal/terms-and-conditions) に準拠して、この事象/資産および関連するコミュニケーションを提供する目的で、これらの 条件 (https://www.ansys.com/ja-jp/legal/privacy-notice)および個人データの処理に同意したことになります。

関連情報

高周波3次元電磁界解析ソフトウェア Ansys HFSS
高周波3次元電磁界解析ソフトウェア Ansys HFSS 製品画像

【特徴】
■Model Resolution機能とModel Healing機能を搭載
CADデータの微小誤差の自動補正とシミュレーションに影響ない些細な形状を簡略化するモデル形状の自動簡略化が可能
■Ansys Designer/Nexxim、Ansys SIwave、Ansys Maxwellとのダイナミック・リンク機能
Ansys SIwave、Ansys Maxwell 3Dによって得られた解析結果をAnsys HFSSの放射源として取り込むことが可能となり複雑なPCBの不要輻射や、DCに近い低周波における電磁場を放射源とした電磁界解析が可能
■Incident waveに、spherical、cylindrical、Gaussian、linear antenna等の波源を追加
■ネットワークに接続されている他のコンピュータに解析要素を振り分ける分散処理機能により、解析スピードの向上が向上
■64ビットパソコンに対応。大規模問題の解析が可能

製品の詳細は下記をご覧ください。
https://www.ansys.com/products/electronics/ansys-hfss

アンシス・ジャパン株式会社 エレクトロニクス解析製品総合カタログ
アンシス・ジャパン株式会社 エレクトロニクス解析製品総合カタログ 製品画像

【掲載製品】
○3 次元電磁界解析
→Ansys HFSS 
→Ansys Q3D Extractor 
→Ansys Maxwell 
○平面電磁界解析
→Ansys SIwave 
○回路・システム解析
→Ansys Simplorer
○熱流体解析ツール
→Ansys Icepek
○Add-on モジュール
→Ansys ALinks for EDA


●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

お問い合わせ

下記のフォームにお問い合わせ内容をご記入ください。
※お問い合わせには会員登録が必要です。

至急度  [必須]
ご要望  [必須]
目的  [必須]
添付資料
お問い合わせ内容 
【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。
はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら
イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。
メールアドレス

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

アンシス・ジャパン株式会社

ページの先頭へ