株式会社アントンパール・ジャパン

<カタログ>In-Situ X線回折用サンプルステージ

最終更新日: 2021-04-13 14:02:36.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

XRDビームラインからラボ用XRD装置まで幅広く対応
アントンパールは、長年の経験と最先端のテクノロジーによって精度と信頼性に優れたIn-situX線回折用サンプルステージをご提供します。

例えば、どのような装置選定をすれば良いのか分からない、装置の性能や測定条件について知りたい、スペアパーツについて知りたい、といった様々なご質問は、お気軽にお問い合わせください。
デモ測定も承っております。

関連情報

多目的X線散乱装置 SAXSpoint 5.0
多目的X線散乱装置 SAXSpoint 5.0 製品画像
・測定モード: SAXS、 WAXS、 USAXS、 GISAXS、 BioSAXS、 RheoSAXS、 UV-VisSAXS、 etc
・q範囲: 0.01 nm^-1 ~ 49.3 nm^-1
・観測可能な面間隔: 0.12 nm ~ 628 nm
・X線源:Primux 100 micro microfocus X-ray source (Cu、 Mo、 Ag、 Cr)
・検出器:Dectris社製 Eiger2 R 1M
・温度範囲: -150℃ ~ +600℃
・雰囲気: 真空 / 空気 (乾燥・調湿) / 不活性ガス
・フットプリント (L x W) : 3600 x 900 mm

【様々なアクセサリー】
・-150 °C~+600°Cの温度制御用ステージ
・GISAXSステージ
・延伸ステージ
・加圧ステージ
・せん断ステージ
・湿度制御ステージ
・RheoSAXSモジュール
・USAXSモジュール
・回転モジュール
・バッテリーセル
・FTIRセル
・UV-Visセル
・SEC-SAXSシステム
・オートサンプラー(最大192検体)
RheoSAXSモジュール
RheoSAXSモジュール 製品画像
・q範囲: SAXSpoint 5.0の性能を参照ください。
・温度範囲: -10℃ ~ 90℃
・対応試料 :水を分散媒とする各種溶液、ペースト
【HTK 1200】XRD装置用高温チャンバー
【HTK 1200】XRD装置用高温チャンバー 製品画像
代表的なアプリケーション
・構造解析
・温度膨張係数
・相図の調査
・化学反応研究
・動的構造変化の観測
・格子定数測定

温度範囲 : 25~1200℃
雰囲気 : 空気、不活性ガス、真空(10⁻⁴mbar)
測定配置 : 反射及び透過
【HTK 2000N】XRD装置用超高温チャンバー
【HTK 2000N】XRD装置用超高温チャンバー 製品画像
代表的なアプリケーション
・構造解析
・温度膨張係数
・相図の調査
・化学反応研究
・動的構造変化の観測
・格子定数測定

温度範囲 : 25~2300℃
雰囲気 : 空気、不活性ガス、酸素、真空(10⁻⁴mbar)
測定配置 : 反射
【TTK 600】XRD装置用中低温チャンバー
【TTK 600】XRD装置用中低温チャンバー 製品画像
代表的なアプリケーション
・構造解析
・温度膨張係数
・相図の調査
・化学反応研究
・動的構造変化の観測
・格子定数測定

温度範囲 : -190 °C ~ 600 °C
圧力範囲 :≤ 10-4 mbar ~ 2 bar rel.
雰囲気 :空気、 真空、 不活性ガス

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