XRDynamic 500のTruBeam TMコンセプトは、大型のゴニオメーター半径、真空ビームパス、完全に自動化されたX線光学系/ビーム配置の変更機能を組み合わせ、卓越したデータ品質を実現します。直感的に使えるソフトウェアと最適化されたワークフローにより、さまざまな装置構成で多様なサンプルを測定できます。標準のBragg-Brentano構成で、クラス最高の分解能(1番目のLaB6標準ピークでFWHM <0.021°)を達成します。測定バックグラウンドを最大50 %低減し、空気散乱を最小限に抑えることで、優れたS/N比を実現しています。最適化された非大気下でのXRD測定の構成、およびSAXS専用機の品質を備えたSAXS測定用の構成に素早く切り替えることができます。
最終更新日:
2024-09-18 11:30:41.0
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
カタログ発行日:2022/02
粉末X線回折は材料やアプリケーションに欠かせない特性評価技術です。XRDynamic 500はあらゆる測定に対応します
アントンパールは、品質と性能を追求することで半世紀以上にわたって小角X線散乱(SAXS)および非大気下X線回折の市場をリードし、経験を蓄積してきました。
XRDの新境地を開くため、斬新で大胆なデザインビジョンを打ち出し、世界のX線分析業界から信頼されている要素技術を融合させて革新的な装置が誕生しました。
サンプル測定、デモ機、詳細情報のご希望など、お気軽にお問い合わせください!
関連情報
XRDynamic 500のTruBeam TMコンセプトは、大型のゴニオメーター半径、真空ビームパス、完全に自動化されたX線光学系/ビーム配置の変更機能を組み合わせ、卓越したデータ品質を実現します。直感的に使えるソフトウェアと最適化されたワークフローにより、さまざまな装置構成で多様なサンプルを測定できます。標準のBragg-Brentano構成で、クラス最高の分解能(1番目のLaB6標準ピークでFWHM <0.021°)を達成します。測定バックグラウンドを最大50 %低減し、空気散乱を最小限に抑えることで、優れたS/N比を実現しています。最適化された非大気下でのXRD測定の構成、およびSAXS専用機の品質を備えたSAXS測定用の構成に素早く切り替えることができます。
代表的なアプリケーション
・構造解析
・温度膨張係数
・相図の調査
・化学反応研究
・動的構造変化の観測
・格子定数測定
温度範囲 : 25~1200℃
雰囲気 : 空気、不活性ガス、真空(10⁻⁴mbar)
測定配置 : 反射及び透過
・構造解析
・温度膨張係数
・相図の調査
・化学反応研究
・動的構造変化の観測
・格子定数測定
温度範囲 : 25~1200℃
雰囲気 : 空気、不活性ガス、真空(10⁻⁴mbar)
測定配置 : 反射及び透過
代表的なアプリケーション
・構造解析
・温度膨張係数
・相図の調査
・化学反応研究
・動的構造変化の観測
・格子定数測定
温度範囲 : 25~2300℃
雰囲気 : 空気、不活性ガス、酸素、真空(10⁻⁴mbar)
測定配置 : 反射
・構造解析
・温度膨張係数
・相図の調査
・化学反応研究
・動的構造変化の観測
・格子定数測定
温度範囲 : 25~2300℃
雰囲気 : 空気、不活性ガス、酸素、真空(10⁻⁴mbar)
測定配置 : 反射
代表的なアプリケーション
・構造解析
・温度膨張係数
・相図の調査
・化学反応研究
・動的構造変化の観測
・格子定数測定
温度範囲 : -190 °C ~ 600 °C
圧力範囲 :≤ 10-4 mbar ~ 2 bar rel.
雰囲気 :空気、 真空、 不活性ガス
・構造解析
・温度膨張係数
・相図の調査
・化学反応研究
・動的構造変化の観測
・格子定数測定
温度範囲 : -190 °C ~ 600 °C
圧力範囲 :≤ 10-4 mbar ~ 2 bar rel.
雰囲気 :空気、 真空、 不活性ガス
XRDynamic 500のTruBeam TMコンセプトは、大型のゴニオメーター半径、真空ビームパス、完全に自動化されたX線光学系/ビーム配置の変更機能を組み合わせ、卓越したデータ品質を実現します。直感的に使えるソフトウェアと最適化されたワークフローにより、さまざまな装置構成で多様なサンプルを測定できます。標準のBragg-Brentano構成で、クラス最高の分解能(1番目のLaB6標準ピークでFWHM <0.021°)を達成します。測定バックグラウンドを最大50 %低減し、空気散乱を最小限に抑えることで、優れたS/N比を実現しています。最適化された非大気下でのXRD測定の構成、およびSAXS専用機の品質を備えたSAXS測定用の構成に素早く切り替えることができます。
XRDynamic 500のTruBeam TMコンセプトは、大型のゴニオメーター半径、真空ビームパス、完全に自動化されたX線光学系/ビーム配置の変更機能を組み合わせ、卓越したデータ品質を実現します。直感的に使えるソフトウェアと最適化されたワークフローにより、さまざまな装置構成で多様なサンプルを測定できます。標準のBragg-Brentano構成で、クラス最高の分解能(1番目のLaB6標準ピークでFWHM <0.021°)を達成します。測定バックグラウンドを最大50 %低減し、空気散乱を最小限に抑えることで、優れたS/N比を実現しています。最適化された非大気下でのXRD測定の構成、およびSAXS専用機の品質を備えたSAXS測定用の構成に素早く切り替えることができます。
・測定モード: SAXS、 WAXS、 USAXS、 GISAXS、 BioSAXS、 RheoSAXS、 UV-VisSAXS、 etc
・q範囲: 0.01 nm^-1 ~ 49.3 nm^-1
・観測可能な面間隔: 0.12 nm ~ 628 nm
・X線源:Primux 100 micro microfocus X-ray source (Cu、 Mo、 Ag、 Cr)
・検出器:Dectris社製 Eiger2 R 1M
・温度範囲: -150℃ ~ +600℃
・雰囲気: 真空 / 空気 (乾燥・調湿) / 不活性ガス
・フットプリント (L x W) : 3600 x 900 mm
【様々なアクセサリー】
・-150 °C~+600°Cの温度制御用ステージ
・GISAXSステージ
・延伸ステージ
・加圧ステージ
・せん断ステージ
・湿度制御ステージ
・RheoSAXSモジュール
・USAXSモジュール
・回転モジュール
・バッテリーセル
・FTIRセル
・UV-Visセル
・SEC-SAXSシステム
・オートサンプラー(最大192検体)
・q範囲: 0.01 nm^-1 ~ 49.3 nm^-1
・観測可能な面間隔: 0.12 nm ~ 628 nm
・X線源:Primux 100 micro microfocus X-ray source (Cu、 Mo、 Ag、 Cr)
・検出器:Dectris社製 Eiger2 R 1M
・温度範囲: -150℃ ~ +600℃
・雰囲気: 真空 / 空気 (乾燥・調湿) / 不活性ガス
・フットプリント (L x W) : 3600 x 900 mm
【様々なアクセサリー】
・-150 °C~+600°Cの温度制御用ステージ
・GISAXSステージ
・延伸ステージ
・加圧ステージ
・せん断ステージ
・湿度制御ステージ
・RheoSAXSモジュール
・USAXSモジュール
・回転モジュール
・バッテリーセル
・FTIRセル
・UV-Visセル
・SEC-SAXSシステム
・オートサンプラー(最大192検体)
・温度範囲: 下記またはカタログを参照ください。
・雰囲気: 空気、不活性ガス、真空(一部、反応性ガスに対応)
・測定配置:反射または透過(製品ごとに異なります)
・製品の詳しい情報はお問い合わせください
【ラインナップ】
直接加熱方式
・HTK2000N (室温 ~ 2300℃)
・HTK16N (室温 ~ 1600℃)
・TTK600 (-190 ~ 600℃)
・CHC plus+ (-180 ~ 400℃、 湿度制御可能)
・BTS500 (室温 ~ 500℃、 卓上XRDに対応)
・BTS150 (-10 ~ 150℃、 卓上XRDに対応)
・DHS1100 (室温 ~ 1100℃、 4軸回折計に対応)
・DCS500 (-180 ~ 500℃、 4軸回折計に対応)
非接触加熱方式
・HTK1200N (室温 ~ 1200℃、 キャピラリー装着可能)
・XRK900 (室温 ~ 900℃、 反応性ガス使用可能)
各製品の特徴はカタログをご覧ください。
・雰囲気: 空気、不活性ガス、真空(一部、反応性ガスに対応)
・測定配置:反射または透過(製品ごとに異なります)
・製品の詳しい情報はお問い合わせください
【ラインナップ】
直接加熱方式
・HTK2000N (室温 ~ 2300℃)
・HTK16N (室温 ~ 1600℃)
・TTK600 (-190 ~ 600℃)
・CHC plus+ (-180 ~ 400℃、 湿度制御可能)
・BTS500 (室温 ~ 500℃、 卓上XRDに対応)
・BTS150 (-10 ~ 150℃、 卓上XRDに対応)
・DHS1100 (室温 ~ 1100℃、 4軸回折計に対応)
・DCS500 (-180 ~ 500℃、 4軸回折計に対応)
非接触加熱方式
・HTK1200N (室温 ~ 1200℃、 キャピラリー装着可能)
・XRK900 (室温 ~ 900℃、 反応性ガス使用可能)
各製品の特徴はカタログをご覧ください。
アントンパール社の高精度XRD装置は、お客様の用途に合わせて最適化された測定構成により、常にクラス最高のデータ品質を実現します。高品質のX線源と優れたX線光学系、最新の検出器技術、多様なサンプルステージを採用しております。
アントンパール社の包括的なXRDソリューションは、どのようなアプリケーションにも対応できる汎用性の高い装置セットアップを提供します。XRDynamic 500の斬新なTruBeam TMコンセプトでは、すべての光学部品とアライメント調整を完全に自動化しています。つまり、ボタンをクリックするだけで装置構成を完全に変更することができ、残りの作業は回折装置自身が代わりに行ってくれます。高度な自動化と直感的なワークフローにより、XRDを初めて使う人でも、高品質なデータを圧倒的な効率で収集することができます。
アントンパール社のXRDソリューションは、装置の稼働率が高く、メンテナンスコストが低く、信頼性の高い運用が可能です。堅牢な設計のアントンパール社のXRD装置は、高い測定スループットを維持し、目標通りに高品質のデータを安定して得ることができます
アントンパール社の包括的なXRDソリューションは、どのようなアプリケーションにも対応できる汎用性の高い装置セットアップを提供します。XRDynamic 500の斬新なTruBeam TMコンセプトでは、すべての光学部品とアライメント調整を完全に自動化しています。つまり、ボタンをクリックするだけで装置構成を完全に変更することができ、残りの作業は回折装置自身が代わりに行ってくれます。高度な自動化と直感的なワークフローにより、XRDを初めて使う人でも、高品質なデータを圧倒的な効率で収集することができます。
アントンパール社のXRDソリューションは、装置の稼働率が高く、メンテナンスコストが低く、信頼性の高い運用が可能です。堅牢な設計のアントンパール社のXRD装置は、高い測定スループットを維持し、目標通りに高品質のデータを安定して得ることができます
新しいSAXSpaceは、アントンパール社の従来機器と同様に高精度かつ高速な測定が可能な、モジュール型ナノ構造分析装置です。オプションの選択肢及びアプリケーションの幅を大きく広げ、よりシンプルな操作を実現したユニークな新機能を搭載しています。
・測定モード: SAXS、 WAXS、 BioSAXS、 SEC-SAXS
・q範囲: 0.03 nm^-1 ~ 24.5 nm^-1 (※1)
・観測可能な面間隔: 0.15 nm ~ 209 nm
・X線源: Primux 3000 sealed tube X-ray source (Cu、 Mo)
・検出器:Dectris社製 Mythen2 R 1K
・温度範囲: -150℃ ~ +600℃
・雰囲気: 真空 / 空気 (乾燥・調湿) / 不活性ガス
(※1 オプションの2次元検出器搭載時は最大40.7 nm^-1)
・フットプリント (L x W):1800 x 900 mm
【様々なアクセサリー】
・-150 °C~+600°Cの温度制御用ステージ
・GISAXSステージ
・延伸ステージ
・加圧ステージ
・湿度制御ステージ
・回転モジュール
・SEC-SAXSシステム
・オートサンプラー(最大192検体)
・q範囲: 0.03 nm^-1 ~ 24.5 nm^-1 (※1)
・観測可能な面間隔: 0.15 nm ~ 209 nm
・X線源: Primux 3000 sealed tube X-ray source (Cu、 Mo)
・検出器:Dectris社製 Mythen2 R 1K
・温度範囲: -150℃ ~ +600℃
・雰囲気: 真空 / 空気 (乾燥・調湿) / 不活性ガス
(※1 オプションの2次元検出器搭載時は最大40.7 nm^-1)
・フットプリント (L x W):1800 x 900 mm
【様々なアクセサリー】
・-150 °C~+600°Cの温度制御用ステージ
・GISAXSステージ
・延伸ステージ
・加圧ステージ
・湿度制御ステージ
・回転モジュール
・SEC-SAXSシステム
・オートサンプラー(最大192検体)
・q範囲: SAXSpoint 5.0の性能を参照ください。
・温度範囲: -10℃ ~ 90℃
・対応試料 :水を分散媒とする各種溶液、ペースト
・温度範囲: -10℃ ~ 90℃
・対応試料 :水を分散媒とする各種溶液、ペースト
お問い合わせ
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
株式会社アントンパール・ジャパン