ビューラー株式会社

光学薄膜用スパッター装置 HELIOS

最終更新日: 2024-12-05 14:12:39.0
ビューラー・ライボルトオプティクスの光学用スパッター装置

HELIOS(ヘリオス)は、高品質な光学膜製作用に開発されたスパッター装置です。特に低吸収・低分散が求められる多層フィルターの製造に適しています。HELIOSシリーズは400と800(基板サイズ)の2タイプをご用意しています。

基本情報

【特徴】
・PARMS (Plasma Assisted Reactive Magnetron Sputtering)プロセス技術を用い、アーキングのない高レートで安定した製膜を実現。
・MF(中周波)電源を用い金属酸化膜、窒化膜を製膜。
・膜厚制御はダイレクトモニターリング方式による高精度な制御が可能。
・200層以上および20ミクロン厚の多層膜厚のフィルターが作成可能。
・Co-Sputtering技術により中間屈折率のチューニングが可能。

その他詳細はお気軽にお問合せください。

価格帯 お問い合わせください
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型番・ブランド名 HELIOS
用途/実績例   

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