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プラズマで密着性・接着性の改善、向上!【SURTECH 出展】 製品画像
プラズマで密着性・接着性の改善、向上!【SURTECH 出展】
【粉体への表面処理や、金属同士の接着性など】プラズマにて表面処理をすることでめっきの密着性や、フィルムの接着性を向上。
最終更新日:2018-12-03 20:17:32.0

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注目製品情報

  • バレルタイププラズマ処理装置 PBシリーズ 製品画像
    バレルタイププラズマ処理装置 PBシリーズ
    バレルタイププラズマ処理装置「PBシリーズ」は、等方性真空プラズマを利用して有機物の除去(Ashing)や油分の除去(Cleaning)、珪素化合物(SiO2,SiN)のEtching、濡れ性改善等の処理が溶液(Wet)を使用すること無く行える装置です。良環境性(クリーンな作業環境、無廃液)と低ランニングコストを実現します。 全方向から処理が進行し、対象物の形状に問わず、ナノレベルの処理、洗浄、改質の効果を発揮します。 【装置特徴】 ■サンプル形状を選ばない自由な処理(円筒形処理室/等方性プラズマ) ■多様なプロセス:Ashing(洗浄)、Etching、表面改質等 ■部品は全てクリーンルーム対応(半導体製造装置として使用可能) ■廉価、小フットプリント設計 ■量産装置としてお使い頂ける安全仕様 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
  • 真空装置 基板用平行平板プラズマ処理装置 PC-RIEシリーズ 製品画像
    真空装置 基板用平行平板プラズマ処理装置 PC-RIEシリーズ
    「PC-RIEシリーズ」は、中型液晶基板、プリント基板等のアッシング、デスミア、表面改質、F系ガスエッチング等の処理が行えます。チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○真空プラズマ技術は従来の処理に比べて良環境化 →クリーン化,無廃液化 ○低ランニングコスト ○処理可能基板サイズ550×650mm その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。
  • 真空装置 平行平板評価用プラズマ処理装置   製品画像
    真空装置 平行平板評価用プラズマ処理装置  
    チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまで貴社のご要望に適したバージョンが選択できます。プロセス再現性を重視し電極温調用チラー、APCを標準装備し、高真空プロセス対応のターボポンプを増設することができます。 【特長】 ○RIEプラズマエッチング装置 ○6インチまでのシリコンウエハ、小型角基板の異方性エッチングが可能 ○8,12インチ用装置も設計可能 その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。

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