・試料サイズ：直径20mm×長さ40mm
・試料形状：特に制約無し
・感度：脱離速度1x10^11Ar/s(at S/N=3)
・検出器：四重極質量分析計（QMS)
検出範囲 m/z1～199
質量分解能 (M/△M)≧M
・冷却トラップ(オプション)：液体窒素フロー式若しくはヘリウムガスクローズドサイクル式
※液体窒素フロー式の場合、液体窒素自動供給装置及び液体窒素容器を付加することも可(オプション)
・加熱方式：高周波誘導加熱
試料加熱チャンバ 加熱源 高周波電源（周波数45kHz）
(分析チャンバ) ※電波法により総務省通信局に対する高周波利用設備設置の許可申請が必要です
・温度検出器：熱電対（試料表面接触） 及び 放射温度計（180~2000℃）
・到達圧力(分析チャンバ)：1×10-6 Pa以下
加熱制御 制御温度範囲 低温モード：－50～600℃，高温モード：100℃～1700℃
・試料形状：特に制約無し
・感度：脱離速度1x10^11Ar/s(at S/N=3)
・検出器：四重極質量分析計（QMS)
検出範囲 m/z1～199
質量分解能 (M/△M)≧M
・冷却トラップ(オプション)：液体窒素フロー式若しくはヘリウムガスクローズドサイクル式
※液体窒素フロー式の場合、液体窒素自動供給装置及び液体窒素容器を付加することも可(オプション)
・加熱方式：高周波誘導加熱
試料加熱チャンバ 加熱源 高周波電源（周波数45kHz）
(分析チャンバ) ※電波法により総務省通信局に対する高周波利用設備設置の許可申請が必要です
・温度検出器：熱電対（試料表面接触） 及び 放射温度計（180~2000℃）
・到達圧力(分析チャンバ)：1×10-6 Pa以下
加熱制御 制御温度範囲 低温モード：－50～600℃，高温モード：100℃～1700℃
