株式会社技術情報協会

【書籍】先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術(No.2220)

最終更新日: 2024-05-31 17:18:31.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

カタログ発行日:2023/9/29
【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-

★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか!
  新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊

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■ 目 次
第1章 半導体ウェハの研磨、加工技術とイオン注入
第2章 成膜技術の開発動向と高品質薄膜の作製
第3章 レジスト材料の開発動向と塗布、除去技術
第4章 次世代リソグラフィ技術の開発動向と微細化技術
第5章 ドライエッチング技術の開発動向とプロセス制御
第6章 ウェットエッチング技術の開発動向
第7章 CMPプロセスの開発動向と分析、評価技術
第8章 半導体の洗浄技術、メカニズムと分析、評価技術


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●発刊:2023年9月29日 ●体裁:A4判 630頁
●執筆者:58名 ●ISBN:978-4-86104-982-8
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関連情報

【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)
【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220) 製品画像


■ 目 次
第1章 半導体ウェハの研磨、加工技術とイオン注入
第2章 成膜技術の開発動向と高品質薄膜の作製
第3章 レジスト材料の開発動向と塗布、除去技術
第4章 次世代リソグラフィ技術の開発動向と微細化技術
第5章 ドライエッチング技術の開発動向とプロセス制御
第6章 ウェットエッチング技術の開発動向
第7章 CMPプロセスの開発動向と分析、評価技術
第8章 半導体の洗浄技術、メカニズムと分析、評価技術

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●発刊:2023年9月29日 ●体裁:A4判 630頁
●執筆者:58名 ●ISBN:978-4-86104-982-8
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