株式会社ハイブリッジ

東京営業所

高真空加熱マイクロプローバ『HMP-100』

最終更新日: 2024-12-09 13:36:56.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

関連情報

高真空加熱マイクロプローバ『HMP-100』【最大500℃対応】
高真空加熱マイクロプローバ『HMP-100』【最大500℃対応】 製品画像
【仕様(抜粋)】
<試料評価室>
■真空チャンバ:φ114×h84mm SUS304/内面#400/外面#400+電解研磨
■フランジ:コンフラット規格
■ベーキング:150℃対応
<測定部>
■プローブ数:4探針プローブ/タングステン針
■測定最少電流:1pA以下(常温)
■対向プローブ間距離:417mm
<加熱機構部>
■加熱温度:最大500℃
■加熱機構制御:DC電源外部制御式PIDコントローラ
■温度センサ:K熱電対
<装置本体>
■装置架台
 ・ゴム足付きベースプレート 310×310×25hmm(ゴム足含む)
 ・プローバステージ用フレーム:アルミフレーム構造
■主排気用バルブ:ICF70手動アングルバルブ+ICF70/NW25変換ニップル

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