株式会社ハイブリッジ

東京営業所

2インチ2元スパッタリング装置『HMS2-300』

最終更新日: 2023/07/13
フラットヒータ加熱により最大600℃まで昇温可能!真空及びガス置換雰囲気下での成膜に対応したスパッタリング装置!

『HMS2-300』は、フラットヒータ加熱により最大600℃まで昇温可能な
ため、高温化での成膜が可能な2インチ2元スパッタリング装置です。真空
及びガス置換雰囲気下での成膜に対応しています。2インチマグネトロン式
スパッタカソードを具備しており、最大3元まで増設可能です。オプション
でL/Lチャンバ、移動式膜厚計、バイアス機構に対応しています。

【特長】
■フラットヒータ加熱により最大600℃まで昇温可能
■真空及びガス置換雰囲気下での成膜に対応
■2インチマグネトロン式スパッタカソードを具備 ※最大3元まで増設可能
■オプションでL/Lチャンバ、移動式膜厚計、バイアス機構に対応
■設置スペースはW535×D1000×H1800mmと省スペース

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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