TITANシリーズのプラットフォームを流用した低温用真空炉！
『TITAN LT』は、Ipsenの独自のフロー生産プロセスで製造された低温用真空炉です。
生産性・短納期・操作性における費用対効果の高い真空炉で、特に真空加熱による光輝処理に最適です。
【用途】
焼鈍、ろう付け、光輝時効処理、応力除去、焼き戻し
【特長】
■独自の制御用ソフトウェア搭載
■物温測定、物温管理が容易
■Ipsen独自のヒーター構造
■昇温用の対流加熱では2barまで加圧可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【仕様】
■処理方式：真空
■温度域 ：260～788℃
■断熱材 ：金属シールド
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
■処理方式：真空
■温度域 ：260～788℃
■断熱材 ：金属シールド
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低温用真空炉『TITAN LT』
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
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