スピンタイプ洗浄装置WULFシリーズ「高精細フォトマスク対応」
機能水を使用したスピン洗浄ユニットを装備！RCA洗浄液に変わる洗浄液・洗浄方法の採用
最終更新日：
2024-12-16 08:28:48.0
半導体関連製品
半導体関連製品のご紹介です。
ウェハ搬送移載装置「ピッチ変換」「Face to Face移載」
カセット内のウエハを異なるカセットへ自動移載、2カセット同時やピッチ変換・FtoF(BtoB)等の機能を付加可能
最終更新日：
2024-12-16 08:30:04.0
SiCダミーウェハ「超高純度、高耐熱性、高耐摩耗性を実現」
独自のCVD-SiCで製作され、超高純度、高耐食性、高耐酸化性、高耐熱性、高耐摩耗性の特性を持ちます
最終更新日：
2024-12-16 08:51:12.0
石英管洗浄装置(HTC/VTCシリーズ)「薬液、純水削減に貢献」
縦型洗浄装置(VTCシリーズ)は省スペースで「薬液・純水削減」に貢献。世界トップクラスの納入実績(400台以上)
最終更新日：
2024-12-16 08:30:39.0
ガラス状カーボン「耐薬品性・耐腐食性に優れた炭素材料」
ガラス状カーボンは炭素材料の一種であり、半導体製造装置用部品に使用実績あり。高純度化も可能。
最終更新日：
2024-12-16 08:51:46.0
最大1600℃の電気炉向けヒーター、SiCヒーター（炭化ケイ素）
800℃～1600℃での高温使用が可能！ガラス製造、熱処理など、電気炉に適したヒーター。既存の設備へも置き換え・代替可能！
最終更新日：
2024-12-16 08:56:31.0
二珪化モリブデン(MoSi2)ヒーター 最高1800℃使用可能！
二珪化モリブデンヒーター: 繰り返し使用が可能で高寿命、お客様に合わせた設計が可能
最終更新日：
2024-12-16 08:57:00.0
管状炉(カンタルヒーター)「高温炉用」「各種形状に対応」
半導体熱処理や工業用熱処理まで、各種形状、各種発熱体に対応、高温炉に対応可能な管状炉です
最終更新日：
2024-12-16 08:57:32.0
インライン・ガスフィルター CEPURE「より高いガス置換特性」
圧力損失を低減するデザインと共に、ろ過特性、ガス置換特性等ガスフィルターに求められる特性面も優れています！高純度アルミナを使用
最終更新日：
2024-12-16 08:58:28.0
溶融シリカ質耐火物 (GLASSUN)「低い熱伝導率」
高純度の溶融ケイ酸質原料を主成分とする耐火物GLASSUN 熱衝撃への強い耐久力、低い熱伝導率が応用範囲の広さを実現
最終更新日：
2024-12-16 09:01:16.0
シリコンウエハ研磨用キャリア「短納期、少量ロット対応も可能」
シリコンウエハ製造のラッピング、ポリッシング工程でのウエハホルダーとして使用するキャリアをお客様のニーズに合わせて製作します
最終更新日：
2024-12-16 09:00:32.0
レチクルケース(フォトマスクケース)「クリーンな環境での使用可」
露光装置及び、周辺装置用のレチクルケース。主要露光装置メーカーの露光装置にて多数採用済み。クリーンな環境での使用可能！
最終更新日：
2024-12-16 09:01:59.0
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