上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
カタログ発行日：2022/09/09
プリント基板のスルーホールめっき用に新規開発、ICサブストレート・半導体パッケージ基板を搭載する高多層基板に最適 電子機器の小型化・高機能化・高密度化にともない、モジュール基板や高多層プリント配線板向けのスルーホールめっきに高性能化の需要が高まっています。当社は主にモジュール基板や高多層プリント配線板向けに、高電流に対応可能なスルーホール専用の硫酸銅めっき添加剤、トップルチナMSDを開発しました。当製品は高電流密度での高スローイングパワーを実現し、安定稼働によるメンテナンスの低減などによって生産性の向上に貢献できます。関連情報
高電流対応スルーホール用硫酸銅めっき添加剤
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パソコン、スマートフォンなどの電子機器は日々進化しています。それにともない、半導体パッケージ基板向けの最終表面処理にも微細化・高密度化・製造ラインでの作業効率の改善が求められています。
当社はプリント配線板のスルーホールめっき用に、電気銅めっき添加剤を新規開発しました。
奥野製薬工業は、プリント配線板のめっき工程を中心に、湿式工程全般向けに多種多様の処理薬品を取り揃えています。
また、セミアディティブプロセスで製造される半導体パッケージング基板、ICサブストレート、インターポーザの製造工程全般にも、最新の製品とプロセスをご提案いたしますので、お気軽にお問い合わせください。
高膜厚均一性 ビアフィリング用硫酸銅めっき添加剤
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半導体パッケージ基板では、絶縁層厚が約30μmのビアホールを電気銅めっきにて表面膜厚約15μmで充填します。埋め込み性に優れたビアフィリングめっき用添加剤を用いて、ビアホール内に銅を十分に充填させると、オーバーフィリングと呼ばれる現象が起きて、めっきされたビアホールの表面がドーム状になります。ビアホールへの充填不足は、層間接続の信頼性低下につながりますので、パッケージ基板メーカーは、一般的にドーム状ビアフィリングを標準としています。しかし、最外層のめっきが過剰なドーム形状を示すと、実装部品の接続信頼性が低下します。
当社の「トップルチナHS5」は、抑制剤の分子構造の最適化による分極特性の向上によって、優れたビアフィリング性能を維持しながら、高い膜厚均一性とオーバーフィリングの抑制を実現しました。当製品は、高速伝送向けの微細回路形成に最適であり、電子部品と半導体パッケージング基板の生産性向上と信頼性の向上に貢献します。
ファインパターン・大口径用 ビアフィリング用硫酸銅めっき添加剤
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奥野製薬工業は、プリント配線板のめっき工程を中心に、湿式工程全般向けに多種多様の処理薬品を取り揃えています。
また、セミアディティブプロセスで製造されるICサブストレート、インターポーザの製造工程全般にも、最新の製品とプロセスをご提案いたしますので、お気軽にお問い合わせください。
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奥野製薬工業株式会社 大阪・放出、東京、名古屋など
