めっき膜厚の均一性と良好なビアフィリング性の両立に成功!スルーホールフィリングが求められるコア層へのめっきにも対応します
新型コロナウイルス感染症の発生をきっかけとして、デジタルトランスフォーメーション(DX)が進み、インターネットショッピング、電子決済、動画配信サービスなどの市場も急成長しています。また、スマートフォンをはじめとする電子機器は著しく進化を続けており、電子機器の高性能化、小型化にともない、プリント配線板にも高密度化、薄型化などが強く求められています。半導体パッケージ基板はセミアディティブ法で回路形成され、層間をビアフィリングめっきで接続します。さらに回路の微細化が進むにつれ、めっき膜厚の均一性と良好なビアフィリング性の両立が困難になってきました。
当社は、さらなるパターンめっきの膜厚均一性と優れたビアフィリング性の両立を実現するために、新たに電気銅(硫酸銅)めっき用添加剤、トップルチナGAPを開発しました。
また、セミアディティブプロセスで製造されるICサブストレート、インターポーザの製造工程全般にも、最新の製品とプロセスをご提案いたしますので、お気軽にお問い合わせください。
価格帯 | お問い合わせください |
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用途/実績例 |
半導体パッケージ基板 ICサブストレート |
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ファインパターン・大口径用 ビアフィリング用硫酸銅めっき添加剤
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
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奥野製薬工業株式会社 大阪・放出、東京、名古屋など