最終更新日:
2024-10-09 15:44:42.0
不活性ガスArエッチングと反応性ガスによるエンハンスドRIBEが可能！
『QuaZar』は、大面積イオンソースと高度なモーションコントロールにより、
強誘電体PZTなどの難削材のエッチングプロセスにおいてプラズマエッチング
では実現困難な垂直エッチング性が実現可能なエッチングプロセッシングです。
独自のIon Source、Marathon Grids、Dual PBN(オプション)の採用により、
従来品と比較しMTBMを3倍に(他社の既存装置にも搭載可能)。
また、REDEP Breaker, AUXILIARY Electrodeにより、RFシャント・
アノード消失を防止します。
【特長】
■PZTエッチング応用では、EPDなしで貴金属電極層でエッチストップが可能
(サイドウォールにおける析出なしで、かつスムーズな表面)
■PZTエッチングにおけるフォトレジストに対する選択性は、不活性IBEの
0.6：1から、RIBE：1.1：1に向上
■PZTエッチング速度は、不活性IBEの約20nm/minから、RIBEでは
約30nm/minに向上
※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
基本情報
【その他の特長】
■面内均一性＜2％ 3σ(200mmウェーハ)(スキャニングモーションを取り入れることにより＜0.5％ 3σも達成可能)
■当社のPVD、CVD等とのクラスター化が可能
■150mm、200mmウェーハに対応可能
※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■プラズマエッチングプロセスに代替する強誘電体PZT、AlN、AlScNなどの難削材のエッチング ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。 |
お問い合わせ
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プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
