プレCMPスラリー：CMPプロセス時間を短縮
柔よく剛を制す！シリカにダイヤモンドをブレンドした硬質基板研磨用スラリー。CMPの前の使用することでプロセス時間を短縮します。
最終更新日：
2024-03-12 11:55:50.0
【用途】CMP
ウェハ製造のCMP工程におすすめの製品です。
光学材料用酸化セリウムスラリー『ULTRA-SOL OPTIQ』
高純度の酸化セリウムを使用した光学材料精密研磨用スラリー。高い洗浄性と表面品質を求められる方におすすめです
最終更新日：
2024-03-12 11:57:16.0
