attocube systems社製 nano-FTIR【neaSCOPE】は、最大10nm分解能での分光イメージングや分光測定をおこなうフーリエ変換赤外分光装置です。
特許技術によって散乱光から赤外スペクトルのみを抽出し、10nmの空間分解能を実現します。励起波長も可視~テラヘルツまで対応し、マテリアルサイエンスの更なる追及をサポートします。
より高空間分解能が必要とされる科学分野や半導体技術、高分子化学やライフサイエンスに至る様々な分野に最適です。
【特長】
■attocube systems社 特許 バックグラウンドノイズ除去技術
■高空間分解能10nmでのイメージングと分光測定を実現
■高い再現性と高感度検出を可能にする専用AFMを開発
■AFM測定に適したサンプル準備でバルク断面の測定が可能
■サンプルの薄片化不要!
詳しくはお問い合わせください。
基本情報
【仕様】
○スキャンエリア:100×100μm(クローズドループ)
○サンプルステージ
・モータ駆動:最大移動幅 X=60mm、Y=15mm、Z=6mm
(AFMヘッド側 X=30mm、Y=3mm、Z=4mm)
○ノイズレベル:<0.2nm RMS(1.5 - 150Hz)
○光学顕微鏡
・水平分解能0.8μm、視野角0.7mm
・長作動距離対物レンズ(WD=20mm)
○CCDカメラ:5Mpix ハイスピード・デジタルイメージング
○励起波長
・可視、赤外およびテラヘルツまで(400nm~200µm)
※専用ブロードバンド光源により中赤外領域のナノスペクトロスコピー可能
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用途/実績例 | 【用途】 ○フーリエ変換赤外分光装置として →イメージング&分光測定が可能 ●詳しくはお問い合わせください。 |
詳細情報
PMMA構造に着目した、波数1740cm-1 によるイメージング。反射および位相ともにAFM像と同時取得されている。SN比良く測定され、細かい構造まで組成情報を可視化できている
PMMA母材に付着した主成分をPDMSとする異物を母材の影響なく、高空間分解能で指紋領域スペクトルを取得。また、同一サンプルでPMMA/シリコン界面を横断するようにラインスペクトルマッピング(20nmステップ30点)を行った際、界面近傍ではPMMA由来のピークが1ステップで消失しており、波数固定のイメージングだけでなく、分光においても高い空間分解能が確認されている
化合物半導体SiCにおいて、圧痕周辺にAFM像には見られない内在する欠陥を高分解能に可視化
走査プラズモン干渉法によるCVDグラフェン粒界における電気的・プラズモニックな現象を可視化。AFMによる凹凸像では明確ではない粒界もプラズモンの散乱による定在波のため明瞭に存在を示している。
SiO/Si上に熱堆積法により約40nm厚のペンタセン膜を成膜、表面凹凸像からテラスを確認 (直径約3mm、高さ約1.5nm)。近接場分光により、XRDなどで確かめられている各結晶相の同定が可能。約1um 離れている2点間のスペクトルを分離して測定。僅か数cm-1の差も検出可能。ナノスケールドメイン構造により、ペンタセンのマクロスケールの伝導特性が決まるため、結晶相の把握は重要。
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日本カンタム・デザイン株式会社