企業ニュース
掲載開始日:
2024-01-17 00:00:00.0
株式会社クオルテックは、シリコンカーバイド上のルチル構造二酸化ゲルマニウム製膜に
成功したPatentix株式会社との間で、資本業務提携を締結し、2023年12月19日(火)に
クオルテック本館にて、調印式を執り行いました。
本提携により、今後は両社の得意とする技術領域を合わせ、更なる事業領域の
拡大を図るべく、二酸化ゲルマニウム(GeO2)半導体のエピウエハ製造を軸とした
未来品質の創造に向けた半導体ソリューションを展開いたします。
調印式後には、同社の事業内容やGeO2の今後の可能性について講演を執り行いました。
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