最終更新日:
2024-06-03 16:40:30.0
低損失化、高耐圧化、小型化の面で優位性を持つ、GeO2半導体の製膜事業の早期参入を目指す！
株式会社クオルテック(本社：大阪府堺市、以下「クオルテック」)は、
「滋賀県立テクノファクトリー」内に、新規半導体材料を使用した
パワー半導体の製膜における研究開発拠点を開所しました。
開所式にはクオルテックが本研究開発に関して資本業務提携し、
「琵琶湖半導体構想(案)」を推進する立命館大学発ベンチャー、
Patentix株式会社(本社：滋賀県草津市)も出席し、開所式を行いました。
ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。
【本拠点開所の背景】
■「二酸化ゲルマニウム(GeO2)」のPhantom SVD法による4インチ
Siウエハ(100)上への製膜に成功
■二酸化ゲルマニウム薄膜の大面積化に向けて、GeO2薄膜の電気特性評価や
膜中に存在する欠陥評価等を行い、高品質なGeO2エピ製膜技術の開発を
進めていくため
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