神港精機株式会社 東京支店

アニール装置『可変雰囲気熱処理装置』

最終更新日: 2019-06-14 15:01:04.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

電子部品製造プロセスの薄膜工程からアセンブリ工程まで全てに対応可能!
『可変雰囲気熱処理装置』は、ウェハやセラミックスなどの電子部品の
アニールや焼成金属ナノ粒子の焼結など多くの用途に対応した
多目的熱処理装置です。

真空・N2・H2の各雰囲気が使用でき、薄膜アニール・塗布材乾燥・焼成や
電子モジュールの接合まで幅広い用途に対応しています。

均熱性と生産性に優れており、急冷機構の採用により、電子部品製造
プロセスの薄膜工程からアセンブリ工程まで全てに対応可能です。

【主仕様(一部)】
■処理物:電子部品・モジュール、各種ウェハ
■処理温度:常用500℃ 最高600℃(オプションで900℃)
■処理量:4インチウェハ25枚/バッチ
■処理雰囲気:真空・不活性(N2)・酸化(O2)・還元(H2)
■処理圧力:真空~常圧

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連情報

アニール装置『可変雰囲気熱処理装置』
アニール装置『可変雰囲気熱処理装置』 製品画像

※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。

水素アニール装置(電子デバイス用、サンプルテスト対応中)
水素アニール装置(電子デバイス用、サンプルテスト対応中) 製品画像

6インチウェハ対応の石英管の横型炉を標準とし、8インチ、縦型炉がオプション対応
高真空排気系も装備可能で、より純度の高い還元雰囲気熱処理が可能。
実績豊富な機器構成に加えボートローダーやデータロギング機構などの周辺機器も豊富にラインアップ。
不活性雰囲気アニールにも対応できる専用アニール装置。

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