上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
平行平板型サイドスパッタリング装置
カソード:ロータリーマグトロンカソード3元
対応基板:φ410までの平板基板
カソード電源:DCおよびRF
付属機構:基板加熱機構、逆スパッタ、バイアススパッタ機構
オプション機構
同時スパッタ機構
CtoC化、インライン化
関連情報
標準バッチタイプスパッタリング装置(SRVシリーズ)
-
シリーズは基本的に4インチカソード、6インチカソード、8インチカソードを装備したバッチタイプ(標準各3元装備)。それぞれカソードの倍以上の面積を有効成膜範囲としています。
スパッタ方向(アップ、ダウン)も目的に合わせて選択可能でチャンバサイズに合わせて標準型以外の大型カソードも搭載できます。
カソードも膜種に合わせて強磁性体用、コンベンショナルタイプなどの各タイプが選択できます。
その他機構も高温加熱、基板冷却(水冷)、多元同時スパッタなど多くのオプションにより幅広い用途に対応いたします。
プラズマエッチング装置「EXAM」サンプルテスト受付中
-
標準仕様
ステージ寸法:250mm□ エッチング方式:RIE CF系ガス標準
シンプルな機構でRIE/DPモード切替可能
ステージ温度制御(水冷/加熱)選択可能
ステージ寸法大型化(最大500mm□)対応可能
横型蒸着装置
-
φ750から最大φ1000まで基板寸法と生産量に合わせて最適な処理量と蒸発源等各種機構が選択できます。
イオンプレーティング機構の追加により膜の密着力の向上と反応性生成膜の形成が可能
窒化膜、酸化膜、高密着性電極膜等スパッタよりハイレートで低ダメージの薄膜形成が可能
アニール装置『可変雰囲気熱処理装置』
-
※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
お問い合わせ
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
神港精機株式会社 東京支店