上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
小径ウェハ（Φ６インチ＆Φ４インチ以下）のニッチプロセスに対応。高精度加熱大気圧還元雰囲気アニールで他には無い工程を実現。
真空置換後の大気圧水素雰囲気でのアニール処理に対応。窒素・アルゴン等の不活性雰囲気処理にも対応。真空アニールも可能で基板や工程に合わせて最適な処理を提案可能。加熱後の冷却を促進する。急冷型の炉体を装備。
シリコンウェハだけでなく化合物・誘電体・ガラス・セラミックスなど各種基板の幅広いプロセスに対応。
シリコンウェハだけでなく化合物・誘電体・ガラス・セラミックスなど各種基板の幅広いプロセスに対応。
関連情報
真空熱処理装置（ホットプレートタイプ）
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急速加熱用熱板で３００ｍｍ□の基板の処理に対応。基板冷却機構により短時間・短タクト処理を実現。
長時間の加熱によるダメージが問題となる基板に安定した加熱プロセスを提供。
標準バッチタイプの評価を基にインラインタイプへのシステムアップが容易
縦型真空アニール装置
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Ｓｉウェハへの対応を基本とし各種基板・用途に柔軟に対応カスタマイズ
サファイア、石英、ガラス、ＰＣＢ等多用途対応。
雰囲気も真空（低真空・高真空）不活性（Ｎ２，Ａｒ）酸化、還元（Ｈ２，フォーミングガス）等豊富な実績機能より選択可能。
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神港精機株式会社 東京支店
