原子層蒸着(ALD)用バルブ ALD20さらなる領域へ、ALDバルブ技術のブレイクスルー
Swagelok 原子層蒸着(ALD)用バルブは、高速開閉と再現性に高い作動機能を有し、非常に優れたサイクル・ライフを実現します。さらなる微細化・高度化へのニーズに対応すべく、大流量・高温用途向けの「ALD 20」を製品ラインアップに追加しました。ALD（原子層蒸着）用途での性能を最適にするため、 アクチュエーターやインジケーター、ソレノイドなど各種オプションも取り揃えています。
【特長】
非常に優れたサイクル・ライフを実現
高速の開閉機能 （オープン／クローズに要する時間は5ミリ秒未満）
高温下でも安定した流量と再現性を実現
膨潤とコンタミネーションへの耐性を高め、シール性能の優れたシート
流路から障害物を一掃し、たまり部分を最小限に抑えるボディ・デザイン
＜3つの課題に 超高純度用 ALD20バルブ＞
1. 大流量：既存ALDバルブのほぼ3倍にあたる最大1.7Cvの流量係数を実現（当社比）
2. 高温：アクチュエーター部分を含め、バルブ全体をガス・ボックスに入れて使用することが可能
3. 高性能：耐食性に優れているため、腐食性の高い流体も使用可能
半導体デバイスの微細化に欠かせないＡＬＤプロセス。ガス供給を制御する高い性能が求められるバルブ。
スウェージロック・ジャパン『ＡＬＤ２０』は大流量・高温用途に対応したＡＬＤ用バルブの新製品です。
高速開閉・長寿命・高い再現性といった特長を有し、アクチュエーターなど各種オプションも用意。
スウェージロック・ジャパン『ＡＬＤ２０』は大流量・高温用途に対応したＡＬＤ用バルブの新製品です。
高速開閉・長寿命・高い再現性といった特長を有し、アクチュエーターなど各種オプションも用意。
| 価格情報 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | 原子層蒸着（ALD）プロセス用途向け超高純度用バルブ |
| 用途／実績例 | 半導体業界の原子層蒸着（ALD）プロセスをはじめ、高速での作動や長いサイクル・ライフを必要とする箇所に適しています。 |
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原子層蒸着(ALD)用バルブ ALD20
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