<半導体関連マスク‐基本資料公開>部署異動や転職で、はじめて各種マスクを扱われる方必見!マスクの構造や種類、製造方法を詳しく解説
竹田東京プロセスサービス ファインプロセス本部では、プリント基板や電子部品の電子回路形成用として使用される
フォトマスク(ガラスマスク)、スクリーンマスク、メタルマスクを、短納期かつ低価格でご提供しております。
万全の生産体制で高精度かつ高品質なマスクでお客様の多様なニーズにお応えします!
本資料は、当社ならではの視点で
『ガラスマスク・スクリーンマスク・メタルマスクの基本』を詳しくおまとめしています。
部署の異動や配属、転職等で新たにマスクをご使用になる方向けの資料です。ぜひ選定の際にご活用ください!
【資料掲載内容】
◎ガラスマスク編
・基本構造、種類、作り方
・ペリクル付きCrガラスマスクについて
・Emガラスマスク、Crガラスマスクについて
◎スクリーンマスク編 … 基本構造、乳剤の種類、作り方
◎メタルマスク編 … 基本構造、種類、作り方
*本資料は[PDFダウンロード]よりご覧いただけます。
*その他ご不明な点は、お気軽にお問い合わせください。
竹田東京プロセスサービス ファインプロセス本部では、高い品質と精度のキャリブレーションプレート、
フォトマスク(ガラスマスク)、スクリーンマスク、メタルマスクを、短納期かつ低価格でご提供しております。
半導体関連のマスク製品にお困りの際は、ぜひ当社へお問い合わせください。
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 |
【用途】 ・プリント基板や電子部品の電子回路形成用 ・各種製造装置の校正用 |
関連ダウンロード
よくわかる!ガラスマスク・スクリーンマスク・メタルマスクの基礎
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
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