リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加で高品位かつフレキシブルな成膜をする装置です
最終更新日：
2024-04-03 10:54:48.0
高速成膜ALD装置『FHR.STAR-400x300SALD』
In-Situのエリプソメーターや透過型分光器に対応！独FHR社製高速成膜ALD装置
最終更新日：
2024-03-11 11:21:10.0
有機材料用蒸着源 Creaphys DEシリーズ
R＆Dや少量生産用にデザインされた有機材料用蒸着源です。 50℃から800℃まで広範囲で安定した使用が可能です。
最終更新日：
2024-02-28 13:39:14.0
スパッタリング装置FHR.Star100-Tetra-Co
FHR Star.100-Tetra CoはMEMSや高機能光学製品向けに設計された非常にコンパクトなスパッタリング装置です。
最終更新日：
2024-03-18 14:54:43.0
FHR.Roll.1600-FCCLスパッタリング装置
FCCL（フレキシブル銅張積層板）製造用高スループットロール to ロール型スパッタリング装置
最終更新日：
2024-03-18 15:01:29.0
リモートイオンソース型 HR-PVDスパッタリングモジュール
指向性成膜を実現し、リアクティブスパッタリングも可能な高イオン電流ヘリコンプラズマイオンソースPVDモジュール
最終更新日：
2024-03-27 14:25:01.0
金属ベルトとプーリーの設計ガイドおよび技術者用参考資料
金属ベルトの基本設計事項の参考資料として提供！各種用途や設計における考慮事項などを掲載！
最終更新日：
2021-02-12 16:45:29.0
