大陽日酸株式会社

産業ガス事業本部

低温反応制御システム 冷やせる温度域:常温~-100℃

最終更新日: 2019/02/22
液化窒素の冷熱を利用して、 製薬合成等の化学合成環境を低温に保持するシステムです。その温度は、-100℃も可能です。

液体窒素の冷熱(-196℃)を利用し、低温環境を実現します。
主に、原薬・中間体の低温合成プロセスで使用されます。

冷熱を利用する方法として、大きく分類すると、「間接冷却式」と「直接冷却式」の2種類がございます。

低温合成、低温反応、反応熱除去、暴走反応防止などにお使いいただいています。
プラントスケールからラボスケールまでお客様のニーズに合わせて幅広く対応します。

納入実績国内No.1
数多くの製薬メーカー殿や化学メーカー殿に納入実績あり
GMP対応も行っております。

●低温反応制御システムの詳細は、カタログダウンロードよりご覧下さい

基本情報

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