CMPプロセスにおけるスラリーのオンラインモニタリング技術資料・事例集 | カタログ

関連情報

測定対象　：　スラリー液（固形分濃度測定）
測定範囲　：　0~100％
温度範囲　：　-40~125℃
接液材質　：　ステンレス、ハステロイC276

※L-Dens4xxシリーズ、DPRnシリーズの後継機です。

（このセンサーは、液体用振動式密度計・プロセス液体密度計・流体プロセス・プロセス用精密密度です。また、真の密度が測定できるセンサーであり、コリオリ式・浮子式・質量流量式ではありません）

プロセス用　金属スラリー濃度計　密度式

測定対象　：　スラリー液（固形分濃度測定）
測定範囲　：　0~100％　（サンプルの密度値を測定し、検量線を作成）
密度範囲　：　０~3 g/cm3　
温度範囲　：　-40~125℃
接液材質　：　ステンレス、ハステロイC276

※L-Dens4xxシリーズ、DPRnシリーズの後継機です。

（このセンサーは、液体用振動式密度計・プロセス液体密度計・流体プロセス・プロセス用精密密度です。また、真の密度が測定できるセンサーであり、コリオリ式・浮子式・質量流量式ではありません）

スラリーの沈降性・再凝集性評価　レオメーター

　弊社のレオメータは操作性を重視した省スペース設計となっており、一般的な実験台や作業台に容易に設置いただけます。
　1回の測定に必要なサンプル量は、測定に用いる治具によって異なりますが、スタンダードな治具では0.2~2mL程度となります。
　測定温度範囲はオプションによって異なりますが、最大で-160~1000℃となっております。

半導体材料の純度試験微量元素分析の前処理装置

・横幅：50 cm 高さ：47 cm 奥行：79 cm
・温度：最大300℃ 、圧力：最大199bar、出力：最大2000W
・最大サンプル数:28

CMPスラリー：研磨剤、酸化剤（酸化性物質）、キレート剤、腐食抑制剤
スパッタリングターゲット：アルミニウム、銅、ステンレス、タンタル、ニッケル

固体表面ゼータ電位測定装置SurPASS 3　半導体ウェハ用

【測定対象】
半導体ウェハ (シリコンウェハ、ガリウム砒素 (GaAs) ウェハ、ガリウム燐 (GaP) ウェハ、窒化ガリウム (GaN) ウェハ、シリコンカーバイド (SiC) ウェハ、サファイアウェハ、化合物半導体ウェハ、SAWウェハ)

【測定サンプルの規格】
サンプルサイズ：最小 35 mm x 15 mm、または、最小直径 17 mm
サンプル厚さ　：最大 40 mm

【測定範囲】
流動電位：± 2000 mV ± (0.2 % + 4 μV)
流動電流：± 2 mA ± (0.2 % + 1 pA)
セル抵抗：5 Ω～20 MΩ ± (2 % + 0.5 Ω)
圧力測定：4000 mbar ± (0.2 % + 0.5 mbar)
　　　　　圧力差が1500 mbarを超える場合は、外部圧力供給(圧縮窒素)が必要
pH　　　：pH 2～pH 12
導電率　：0.1～1000 mS/m
温度　　：20～40 °C

【寸法】
600 mm x 432 mm x 245 mm

【重量】
26 kg

プロセス用液体濃度センサー

測定対象　：　各種酸濃度、石油、ディーゼル燃料、試薬、スラリー…etc
測定範囲　：　0-100％　（測定サンプルにより範囲が変わります）
温度範囲　：　-40～125℃（他のレンジについては応相談）
精度　　　：　0.0001g/cm3　（センサー仕様）

オンライン密度計式　固形分濃度計

測定対象　：　スラリー液
測定範囲　：　0~100％
温度範囲　：　-40~125℃
接液材質　：　ステンレス、ハステロイC276
本センサーは液体用のため、低粘度サンプルが対象です。詳細はお問い合わせください。

プロセス用濃度計の選定について　測定原理とセンサーの比較

その他の濃度計

・導電率式濃度計（伝導率計）
　導電性に直線性があるサンプルであれば安価に測定可能です。温度の影響も受けるため、事前に十分な確認が必要です。
・光学式濃度計（吸光光度、濁度、透過度など）
　濃度との相関性は低いため、事前に十分に確認することが大切です。また、メンテナンス性も千差万別です。
・粘度式濃度計
　粘度を測定して濃度に換算します。粘度は濃度以外に摩擦や温度に影響を受けるため、導入前に十分に確認することが必要です。

※コリコリ質量流量計
　流量計の中にも密度の測定が可能なものがあります。温度も測定するため、濃度測定が可能です。ただし、装置によっては流量や温度変化、周囲からの振動に大きな影響を受けるものがあり、選定には注意が必要です。また、流量も測定するため、センサーが大型化しがちであり、濃度計としてはコストにご注意ください。
　アントンパールのプロセス密度計は密度専用センサーです。コリオリタイプとは異なり、シングルのU字管で測定されています。また、設置アダプターとセンサーが分離されているため周囲の機械的な応力ストレスからの影響を最小限にしています。
　

プロセス用超音波濃度計測機器、密度式濃度計

L-Sonic 5100

測定範囲　：800～2500 m/s
接液材質　：ステンレス鋼1.4404 (316L)、HASTELLOY、HYBRID-BC1合金、モネル400、ロジウムコーティング
フォーク長　:56 mm
精度　　　　:再現性音速　0.1 m/s、再現性温度　0.02 °C、繰返精度　0.005 m/s
プロセス温度：-25 ～ 125 °C
洗浄耐熱　　：145 °C(30分以内)
周辺温度　　：(非防爆) HMIなし -25 ～ 65 °C、HMIあり -20 ～ 55 °C
推奨流量　　：0以上～6 m/s
通信対応　　：以下から選択　アナログ、HART、Modbus RTU、プロフィバス、Devicenet、イーサネット/IP、Modbus TCP

※他の条件の場合、別の測定原理のご案内が可能です。
※エアコン開発におけるOCR測定については別の仕様となります。

オンライン密度計式　CMPスラリー濃度計

測定対象　：　スラリー液（固形分濃度測定）
測定範囲　：　0~100％
温度範囲　：　-40~125℃
接液材質　：　ステンレス、ハステロイC276　
　※ガラスの場合はL-Dens3300型にて対応となります。

-Dens4xxシリーズ、DPRnシリーズの後継機です。

（このセンサーは、液体用振動式密度計・プロセス液体密度計・流体プロセス・プロセス用精密密度です。また、真の密度が測定できるセンサーであり、コリオリ式・浮子式・質量流量式ではありません）

オンライン密度計　フォトレジスト液

初期濃度の調整用
溶剤の揮発分を密度測定による、濃度の自動調整

オンライン密度計　エッチング液

　アントンパール社のポートフォリオは湿式プロセスで使用される酸性・アルカリ性の溶液を利用した薬品の測定に適しています。界面活性剤などの添加剤の添加工程の制御、モニタリングにも使用できます。

　エッチング液のリアルタイムモニタリングのほか、剥離剤、洗浄剤のモニターにも使用されています。また、排液の再生・処理にも使用できます。

半導体プロセスにおける硫酸アンモニウムの回収と濃度センサー

測定対象　：　硫酸アンモニウム、硫酸、アンモニア性窒素、過酸化水素
測定範囲　：　0~100％（測定対象による）
温度範囲　：　-40~125℃
接液材質　：　ステンレス、ハステロイC276、インコロイ、タンタル
　※ガラスの場合はL-Dens3300型にて対応となります。

-Dens4xxシリーズ、DPRnシリーズの後継機です。

（このセンサーは、液体用振動式密度計・プロセス液体密度計・流体プロセス・プロセス用精密密度です。また、真の密度が測定できるセンサーであり、コリオリ式・浮子式・質量流量式ではありません）

プロセス用金メッキ液の比重自動管理センサー

測定対象　：　めっき液（比重測定）
測定範囲　：　500～2000kg/m³　
温度範囲　：　-10～+60°C
接液材質　：　ステンレス、ホウケイ酸ガラス

※L-Dens3xxシリーズ、DPRnシリーズの後継機です。
（このセンサーは、液体用振動式密度計・プロセス液体密度計・流体プロセス・プロセス用精密密度です。また、真の密度が測定できるセンサーであり、コリオリ式・浮子式・質量流量式ではありません）

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