クロスライトソフトウェアインク日本支社

半導体プロセス&デバイスシミュレータ「NovaTCAD」

最終更新日: 2020-05-12 11:39:17.0

  • カタログ

2D/3Dのプロセスシミュレータとデバイスシミュレータを統合したクロスライト社のTCAD。無料試用版あり!

<主な特徴>
■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア「APSYS」
■Stanford大学開発のSUPREMをクロスライトが独自に機能拡張した「CSUPREM」
■マスク編集ツール(GDSII可)
■デバイス断面構造の入力・編集ツール
■シミュレーション結果をグラフィカルに表示

<デバイスシミュレーションのための多様な物理モデルや機能>
■電流-電圧(I-V)特性
■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布
■流体力学モデルにおけるホット・キャリア温度の2次元分布
■熱輸送モデルで用いられる格子温度の2次元分布
■様々なバイアス条件のもとでのバンド図
■任意の周波数帯における交流微小信号応答解析の結果
■荷電子混合モデルを用いた量子井戸のサブバンド
■半導体中の深いレベルにトラップされた不純物占有数と密度の2次元分布
■光検出器などの光デバイスの2次元光学場分布
■LEDの自己放出スペクトルの電流依存性

■その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。
■試用版は「試用版お申込フォーム」からお申込みください。

<インターフェイス>
■プロセスシミュレーションとデバイスシミュレーションがGUIを通して制御可能(マスクデータの編集機能、物理モデルやバイアス設定、結果の解析・表示機能、自動処理など)

<材料マクロ (APSYS)>
■化合物 (InGaAsNSb, AlGaAsSb, InAs, InAlAs, InP, InGaAlAs, etc.)
■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.)
■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.)
■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.)
■絶縁体 (air(空気), vacuum(真空), TiO2, AlAs-oxide, sapphire, etc.)
■有機物 (BPhen, BCzVBiドープCBP,CuPc, LiF, etc.)
■その他 (GaP, CdS, ZnTe, ZnSe, ZnS, etc.)
価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 <適用デバイス・モデル>
■LDMOS
■LIGBT
■シリコン(ダイオード、JFET、NPNバイポーラ、TFT)
■CCD、CIS
■FDTD(2D/3D Lense、光検出器)
■HBT
■HEMT、FET
■LED(GaN MQW, QDot, OLED, RCLED.)
■デバイスと回路の混在シミュレーション
■NANDフラッシュメモリー
■NEGF(FINFET, HEMT, nanowire, NMOS)
■QWIP
■MESFET
■RTD
■ショットキートンネリング
■フォトニック結晶
■光検出器
■太陽電池
■トンネル接合
■TypeII型量子井戸光検出器
など

<解析・プロット>
■物理量の空間分布 (ポテンシャル、キャリア密度、電流分布、バンド図、光モード分布、温度分布、多重量子井戸の波動関数、etc.)
■バイアス依存性 (L-I特性、I-V特性、電流と利得、電流と屈折率変化、etc.)
■スペクトル (モード利得、自然放出、屈折率変化、etc.)
■交流解析 (周波数特性、過渡解析、etc.)

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