物理蒸着法(PVD)による球状 ニッケル(Ni)粉末。サブミクロンスケールで、粒度カスタマイズに対応。
物理蒸着法(Physical vapor deposition (PVD) method)による
球状ニッケル(Ni)粉末。
Ni 純度≧99.0% (C/Oを除く)
サブミクロン スケールで、粒度カスタマイズに対応。
原産国:中国
供給可能数量:月産5トン
■製品スペック(COA : 量産品代表値。)
<D50=0.2μm - 0.3μm品の場合>
Ni 純度:≧99.0%(2N)
不純物濃度(ICP-MS)
Fe=30ppm
Al=28ppm
Cu=31ppm
C/O濃度測定(赤外線吸収法)
C=0.1153wt%
O=1.4650wt%
粒度(レーザー回析・散乱法)
D10=0.145 µm
D50=0.293µm
D90=0.603µm
比表面積(BET法)
4.61 m2/g
Tap 密度
2.40 g/cm3
*量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。
*保証スペックについては、契約にて定めます。
<D50=0.2μm - 0.3μm品の場合>
Ni 純度:≧99.0%(2N)
不純物濃度(ICP-MS)
Fe=30ppm
Al=28ppm
Cu=31ppm
C/O濃度測定(赤外線吸収法)
C=0.1153wt%
O=1.4650wt%
粒度(レーザー回析・散乱法)
D10=0.145 µm
D50=0.293µm
D90=0.603µm
比表面積(BET法)
4.61 m2/g
Tap 密度
2.40 g/cm3
*量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。
*保証スペックについては、契約にて定めます。
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 |
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用途/実績例 |
3Dプリンター用材料 積層セラミックコンデンサ電極材料 |
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