物理蒸着法(PVD)による球状 銅(Cu)粉末。 サブミクロン~1mmまで、粒度カスタマイズに対応。
物理蒸着法(Physical vapor deposition (PVD) method)による
球状 銅(Cu)粉末。
Cu 純度≧99.0% (C/Oを除く)
サブミクロン~1mmまで、粒度カスタマイズに対応。
原産国:中国
供給可能数量:月産5トン
■製品スペック(COA : 量産品代表値。)
Cu 純度:≧99.0%(2N)
不純物濃度(ICP-MS)
Fe=21ppm
Al=22ppm
Ni=26ppm
C/O濃度測定(赤外線吸収法)
C=0.4479wt%
O=0.6104wt%
粒度(レーザー回析・散乱法)
D10=0.59 µm
D50=0.88µm
D90=1.39µm
比表面積(BET法)
1.40 m2/g
Tap 密度
3.96 g/cm3
*量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。
*保証スペックについては、契約にて定めます。
Cu 純度:≧99.0%(2N)
不純物濃度(ICP-MS)
Fe=21ppm
Al=22ppm
Ni=26ppm
C/O濃度測定(赤外線吸収法)
C=0.4479wt%
O=0.6104wt%
粒度(レーザー回析・散乱法)
D10=0.59 µm
D50=0.88µm
D90=1.39µm
比表面積(BET法)
1.40 m2/g
Tap 密度
3.96 g/cm3
*量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。
*保証スペックについては、契約にて定めます。
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 |
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用途/実績例 |
導電性ぺースト 電極用ペースト 導電性接着剤 |
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