日本NER株式会社

サブミクロン~1mmまで 球状 銅(Cu)粉末

最終更新日: 2023-02-16 18:25:31.0

  • カタログ

物理蒸着法(PVD)による球状 銅(Cu)粉末。 サブミクロン~1mmまで、粒度カスタマイズに対応。

物理蒸着法(Physical vapor deposition (PVD) method)による
球状 銅(Cu)粉末。

Cu 純度≧99.0% (C/Oを除く)

サブミクロン~1mmまで、粒度カスタマイズに対応。

原産国:中国

供給可能数量:月産5トン

■製品スペック(COA : 量産品代表値。)

Cu 純度:≧99.0%(2N)

不純物濃度(ICP-MS)
 Fe=21ppm
 Al=22ppm
 Ni=26ppm

C/O濃度測定(赤外線吸収法)
 C=0.4479wt%
 O=0.6104wt%

粒度(レーザー回析・散乱法)
 D10=0.59 µm
 D50=0.88µm
 D90=1.39µm

比表面積(BET法)
 1.40 m2/g

Tap 密度
 3.96 g/cm3

*量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。
*保証スペックについては、契約にて定めます。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
※ 数量によって納期が変動しますので、お気軽にお問い合わせください。
用途/実績例 導電性ぺースト
電極用ペースト
導電性接着剤

関連ダウンロード

サブミクロン~1mmまで 球状 銅(Cu)粉末

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

お問い合わせ

下記のフォームにお問い合わせ内容をご記入ください。
※お問い合わせには会員登録が必要です。

至急度  [必須]
ご要望  [必須]
目的  [必須]
添付資料
お問い合わせ内容 
【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。
はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら
イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。
メールアドレス

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

日本NER株式会社

ページの先頭へ