Si純度2N~4N、粒度分布50nm~3mmに対応。ニーズに合わせカスタマイズ可能
当社は、用途に応じた純度や粒度分布のカスタマイズに対応可能な
『シリコン(Si)粉末』を提供しています。
Si純度は2N(Si>99.0%)、3N(Si>99.9%)、4N(Si>99.99%)、
粒度分布は微粉末(100nm~)、粉末(1.0μm~)、粒体(1~3mm)に対応。
プラズマアーク合成により50nmまでの微粉化を実現した『超微粉末』もあり、
超微粉末はSi純度2Nに対応可能です。
【特長】
■微粉末~粒体の製造方法:乾式ジェットミル・乾式ボールミル
■微粉末~粒体は最低1kg~最大約50t/月の出荷に対応
■超微粉末は最低1kg~最大約500kg/月の出荷に対応
■出荷時、ロットごとにCOAを提出
※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
【カスタマイズ可能範囲】
◎材料:シーメンス法バージンポリシリコン(4N)
金属冶金法ポリシリコン(3N/4N)
金属シリコン(2N/3N)
P/Bドープインゴット(4N)
◎化学成分:Si純度 2N~4N
個別の金属不純物濃度※上限値指定
ドーピング元素(B/P/Ge/As等)濃度※上限値指定
酸素濃度※管理上限濃度協議
◎粒子径:D50指定※D10、D90指定協議
※「超微粉末」のカスタマイズ可能範囲は開発途上のため、ニーズに合わせ研究を進めます。
詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
◎材料:シーメンス法バージンポリシリコン(4N)
金属冶金法ポリシリコン(3N/4N)
金属シリコン(2N/3N)
P/Bドープインゴット(4N)
◎化学成分:Si純度 2N~4N
個別の金属不純物濃度※上限値指定
ドーピング元素(B/P/Ge/As等)濃度※上限値指定
酸素濃度※管理上限濃度協議
◎粒子径:D50指定※D10、D90指定協議
※「超微粉末」のカスタマイズ可能範囲は開発途上のため、ニーズに合わせ研究を進めます。
詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
価格帯 | お問い合わせください |
---|---|
納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。 |
関連ダウンロード
お問い合わせ
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
日本NER株式会社