日本NER株式会社

シリコン(Si)粉末

最終更新日: 2023-02-16 18:06:16.0

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Si純度2N~4N、粒度分布50nm~3mmに対応。ニーズに合わせカスタマイズ可能

当社は、用途に応じた純度や粒度分布のカスタマイズに対応可能な
『シリコン(Si)粉末』を提供しています。

Si純度は2N(Si>99.0%)、3N(Si>99.9%)、4N(Si>99.99%)、
粒度分布は微粉末(100nm~)、粉末(1.0μm~)、粒体(1~3mm)に対応。

プラズマアーク合成により50nmまでの微粉化を実現した『超微粉末』もあり、
超微粉末はSi純度2Nに対応可能です。

【特長】
■微粉末~粒体の製造方法:乾式ジェットミル・乾式ボールミル
■微粉末~粒体は最低1kg~最大約50t/月の出荷に対応
■超微粉末は最低1kg~最大約500kg/月の出荷に対応
■出荷時、ロットごとにCOAを提出

※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

【カスタマイズ可能範囲】
◎材料:シーメンス法バージンポリシリコン(4N)
    金属冶金法ポリシリコン(3N/4N)
    金属シリコン(2N/3N)
    P/Bドープインゴット(4N)
◎化学成分:Si純度 2N~4N
      個別の金属不純物濃度※上限値指定
      ドーピング元素(B/P/Ge/As等)濃度※上限値指定
      酸素濃度※管理上限濃度協議
◎粒子径:D50指定※D10、D90指定協議

※「超微粉末」のカスタマイズ可能範囲は開発途上のため、ニーズに合わせ研究を進めます。
 詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

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