最終更新日:
2023-11-02 15:05:43.0
熱ダメージもなく、nm単位の膜厚を高い再現性で成膜できる！
オスミウムコータ(導電被膜形成)設備の紹介とその観察例について
解説いたします。
試料表面の導電被膜形成処理として、金属オスミウム(Os)の
極薄膜コーティングを行います。
また、試料表面に膜由来の形状が現れず、表面形状観察やEBSD測定への
前処理に用いることが可能です。
【特長】
■チャージアップのない極薄膜の形成
■再現性の高い膜厚制御
■粒状性のない膜
■熱ダメージのない成膜
※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
【設備仕様】
■メイワフォーシス製Neoc-Pro/P
■チャンバー寸法：Φ150×70mm
■真空ポンプ容量：50L/min
■本体外形寸法：340(W)×280(D)×400(H)mm
※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■SEM,FE-SEM観察の前処理(複雑な形状の試料、熱ダメージに弱い試料など) ■EBSD測定の前処理 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
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