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ブリーザーバルブと一緒に二次的な安全装置としても使用できます。
このラプチャーディスクは、標準運転圧力比が破裂圧力の50％⁂まで作動するよう設計されています。フランジ間に直接取り付けられ、ディスクにボルト用の半円の穴があるため、各種フランジに取付可能です。シール面には様々な材料を使用することができます。

圧力解放 | IKB-X型反転型ラプチャーディスク

IKB-X型は、REMBE独自の「コンツアー・プレシジョン・プロファイリ
ング（CPP）」技術を用いて製造されます。CPP技術は、ラプチャー
ディスク表面への高速・高精度なフライス加工を行うデジタル技術
です。高性能で正確な破裂制御を大容量のバッチで可能にします。
CPP技術による生産は大量生産や頻繁な出荷が必要な業界に最
適で、大量委託生産においても正確かつ迅速に対応します。
大型又は低圧用の一般的なラプチャーディスクは、取付時や保管時
に破損する恐れがあるのに対し、IKB-X型ラプチャーディスクは非常
に堅牢な設計です。
また、花弁状に開口する構造により、広範囲の破裂圧力に対応し、破
片飛散の無い安定したフルボア（全断面）開口を実現し、最高レベル
の製品寿命を誇る製品です。

圧力解放 | IG-KUB-PTU ラプチャーディスクホルダー

REMBEでは様々な設計及び型番のホルダーを多数取扱っています。製品情報には代表的な型番とそれに付随する詳細の抜粋は、このサイトでダウンロードできる製品情報に記載されています。

圧力解放 | KUB型ラプチャーディスク

【ご使用のメリット】
◆ 独自開発技術の座屈ピンによって、最も堅牢なラプチャーディスクが実現しました。
◆ 検査後の簡単な再取付と再利用 – 最長寿命を保証し、スペアパーツコスト節約が可能です。
◆ 液体のみの用途への適性 – 液体用途に強い特性を生かして、プラント内の取付可能箇所数を最大化します。
◆ 取付、輸送、保管時の損傷が事実上発生せず、プロセス運転時間が最大限確保され、パーツ交換にかかる費用が削減されます。

【展示会出展予定】
「INCHEM TOKYO 2021　化学とプロセス産業Week」に出展いたします。

日時：2021年11月17日（水）～ 2021年11月19日（金）10:00 ～ 17:00
会場：東京ビッグサイト南展示棟
出展ゾーン：防爆・防災リスク対策展
ブース番号：S2-R06

当社は、ラプチャーディスクや爆発放散口をご紹介予定です。
皆様のご来場を心よりお待ちしております。

圧力解放 | KUB clean型ラプチャーディスク

【メリット】
◆ 簡単に交換可能な一体型クランプガスケット(FDA-及びUSP Class VIに準拠)。
◆ 非常に頑丈な設計により、長い耐用年数 – ダウンタイムが短くなります。
◆ 広い範囲の圧力、口径で使用可能。
◆ Tri-Clampフランジへの直接の取り付けが簡単
◆ サニタリー設計のすべての要件を満たします。

圧力解放 | KUB V型ラプチャーディスク

【メリット】
■安全弁をプロセスから隔離することにより、弁の寿命が伸び、メンテナンス間隔が長くなる
■安全弁の保守コストを削減して、現場でのテストによるダウンタイムを減らす
■通常運転中に媒体と接触しないので、より低コストの材料でできた安全弁の使用が可能
■漏れがないので、排出を防ぐ

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ドイツ製　小型ブリーザーバルブ「ELEVENT」※REMBE社

▶その他メリット
▸取付及び取扱いが素早く簡単
▸不活性プロセスで必要な窒素量を最小限に抑制
▸高純度製品及び高品質保証要求の用途に理想的

※ ハステロイ製の選択や不活性ガス用コネクションの追加取付が可能
※詳細は資料をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。

圧力解放 | 非侵入型爆発監視装置 NIMU

【追加事項】
プロセスは漏れがなく完全密閉されます。通常よく採用されるタッピング（ケーブルを通すための貫通孔）の代わりに、ホルダー内のブラインドタッピング（貫通していない）が使われます。（従来の信号ケーブルをホルダーに通す際に使用される）ケーブルグランドが存在しない、即ち多孔質ではないため、プロセス媒体の漏れを防止することができます。

圧力解放 | STAR型引張型ラプチャーディスク

【費用体効果が高く、堅牢なラプチャーディスク】
STAR型は三層構造で、上部の破裂層、シールメンブレン層、そしてプロセスに面した真空サポート層で構成されます。
重要な役割を担う破裂層は、プロセス媒体に接触しないため特別な材料使用は不要です。腐食性の最も高い運転条件にも適しているため、費用対効果が高くなります。

シールメンブレン層は気密性が高く、通常運転中のプロセス媒体損失のリスクを下げます。金属シール使用により、たとえ刺激の強いプロセス媒体を扱う運転中でも、長期の耐久性及び高い持続性能が確証されています。
組込型の真空サポート層は、高度な耐真空を保証します。ラプチャーディスクの材料選択は、プロセス条件や希望予算に合わせて、完全カスタマイズ可能です。

圧力解放 | SFD型引張型ラプチャーディスク

【安全弁保護用に改良されたラプチャーディスク –　高さが低い位置で破裂します】

SFD型は破片飛散の無い、破裂の高さが低い設計で、ラプチャーディスク開口によって安全弁の性能に影響を与えず、省スペースが可能です。CPL技術を活用し、材料の結晶構造に影響を与えない精密サブリメーション(昇華)加工が面外周になされ、破裂時の正確なフルボア開口を保証します。CPL技術によるフルボア開口により、ラプチャーディスク破裂後、プロセス媒体の放散が最大限可能となります。

CPL技術によって、プロセスに接する面が滑らかなため、ある媒体には不適合なライニングの必要がありません。プロセス面が平滑なので沈着物が付着せず、重合プロセスに適応た活性の高いプロセス媒体であっても長期にわたる信頼性をもたらします。

SFD型は様々なプロセス条件に適し、費用対効果が高く、高性能です。石油・ガス、化学、石油化学、医薬品、食品業界のような産業分野における、厳しい条件下でのプロセスに最適です。

圧力解放 | ZW型二方向ラプチャーディスク

【ご使用のメリット】
◆ 1か所の取り付けで2つのラプチャーディスクの機能を担います。
◆ 追加のホルダーは不要：フランジまたはアングルリングの間に直接取り付けられます。
◆ 広範囲の用途に使用可能。

圧力解放 | ODV型引張型ラプチャーディスク

【ご使用のメリット】
★ REMBE独自の精密レーザー技術による製造 - 正確で優れた性能と開放を保証します
★ 幅広い圧力に対応可能なため、設備全体に同じ型式のラプチャーディスクを取付可能です
★ 多くの用途に使用可能で、耐食性に優れたソリューション - 3層構造のため、長期にわたって高い耐食性を保証します
★ 幅広いプロセス条件に対応可能 - 非常に多くの用途に適した、汎用性と費用帯効果の高いソリューションです

圧力解放 | IKB型反転型ラプチャーディスク

【ご使用のメリット】
◆ 費用対効果に優れ、高品質高性能 –　良心的価格と品質を重視される新規の取付又は置換に最適です。
◆ 安全弁コストの削減 – 安全弁保護のためにIKB型を使用する場合、通常運転中に圧力安全弁はプロセス媒体と接触しないので、より経済的な素材の圧力安全弁の使用が可能となります。
◆ CPLレーザー加工という、材料の結晶構造に影響を与えない技法で製造されるため、早期破裂、スコア部の腐食、ピンホールが起因のダウンタイムを減少します。
◆ トルクの影響を受けにくい設計: 取付用の特別な工具が不要なため、即ち、取付中の損傷リスクを回避し、プロセス稼働時間を最大限確保します。
◆ 幅広いプロセス条件に対応 – 1種類のラプチャーディスクで多くの設置箇所に対応し、トレーニングやコストを節約できます。

圧力解放 | UKB-LS型ラプチャーディスク

【メリット】
◆ 最高の気密性。
◆ 高真空にも最適です。
◆ この世のものとは思えない性能：このラプチャーディスクは人工衛星も守っています – その機能は安心して使えます。

圧力解放 | BT型ラプチャーディスク

現在に至るまで広く使用される初代ラプチャーディスク。

圧力解放 | GRX型グラファイトラプチャーディスク

【ご使用のメリット】
◆ 革新的なコーティングによる高温耐熱性（不活性条件下では+1,500 °Cまで対応）と高い気密性
◆ FDA準拠**
◆ 優れた耐食性
◆ 最長寿命
◆ 材料特性及び破裂圧力が温度の影響を受けにくい
◆ 容易な取付

**乳幼児用ミルクや食品に関するプロセスは除きます。

圧力解放 | CBS型ラプチャーディスク

【ご利用のメリット】
★ タンタル、ハステロイ、インコネルのような高品質材料使用による超長寿命と高耐熱性
★ シールメンブレン層（オプション対応）で最高レベルの気密性
★ タンク通常運転中の輸送媒体（腐食性）から安全弁が保護されるため、安全弁耐用年数の延伸
★ プロセス条件に合う多様な材料と寸法に対応可能

産業界共通の課題を克服したラプチャーディスク

※記事の全文をお読みになりたい方は、是非PDFをダウンロードください。

圧力解放 | KUB F型ラプチャーディスク

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