上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現！スパッタカソードを標準装備しています！
『PIG式 DLC膜形成装置』は、独自開発によるPIGプラズマガンを
採用し、極めて平滑で相手攻撃性の低いDlC膜を高速で形成できる
高密度プラズマCVD装置です。
スパッタカソードを標準装備しており、スパッタ膜との積層構造により
優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現しています。
自動車部品の表面処理用途に豊富な実績を持っており、多くの用途に採用。
また新開発のアーク放電式マグネトロンカソードを装備することで
PVDによる硬質膜も形成が可能でき、プラズマCVD＋PVD複合成膜装置への
機能拡張が容易です。
評価をご希望の方はサンプルテストをお受けしております。
その他、仕様詳細や膜質などにつきましてはお問い合わせください。
【特長】
■極めて平滑なDLC膜が形成可能：（Ra＝0.015μm以下）
■成膜レートが早い：（3μm/hr以上）
■低温成膜：（200℃以下）
■厚膜形成可能：（20μm）
■DLC膜の除膜：同一真空槽内でDLCの除膜が可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
採用し、極めて平滑で相手攻撃性の低いDlC膜を高速で形成できる
高密度プラズマCVD装置です。
スパッタカソードを標準装備しており、スパッタ膜との積層構造により
優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現しています。
自動車部品の表面処理用途に豊富な実績を持っており、多くの用途に採用。
また新開発のアーク放電式マグネトロンカソードを装備することで
PVDによる硬質膜も形成が可能でき、プラズマCVD＋PVD複合成膜装置への
機能拡張が容易です。
評価をご希望の方はサンプルテストをお受けしております。
その他、仕様詳細や膜質などにつきましてはお問い合わせください。
【特長】
■極めて平滑なDLC膜が形成可能：（Ra＝0.015μm以下）
■成膜レートが早い：（3μm/hr以上）
■低温成膜：（200℃以下）
■厚膜形成可能：（20μm）
■DLC膜の除膜：同一真空槽内でDLCの除膜が可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
関連情報
PIG式 DLCコーティング装置
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【DLC膜の特長】
■摺動部品
・高硬度
・低摩擦係数＝0.1
・低い相手攻撃性
■切削工具、金型
・耐摩耗性
・非溶着性
・ドライ加工
■光学部品
・赤外通過性
・屈折率＝2
・表面平滑性
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
アークフィラメント式イオンプレーティング装置
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電子銃による各種材料の安定蒸発と新型イオン化機構による高密度プラズマで反応膜を高速形成。
各種生成膜
硬質耐酸化性膜：ＳｉＣ
耐プラズマ性膜：Ｙ²Ｏ³
硬質窒化膜 ：ＴｉＮ，ＣｒＮ，ＴｉＣ
硬質酸化膜 ：ＡＩ²Ｏ³
半導体製造装置部品の表面処理膜から精密金型の耐酸化性コーティングまで新機能表面処理用コーティング装置
イットリアコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）
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電子ビームによる各種材料の蒸発とアークフィラメント式イオン化法により安定して反応膜生成膜（窒化膜・酸化膜・炭化膜）を形成。
成膜レートも反応ガス流量のみで制御。シンプルで信頼性の高いハードにより最新の成膜プロセスを提供
充実の成膜プロセス
・耐プラズマ性イットリア膜（１０μｍ）
・耐酸化性硬質膜ＳｉＣ（７μｍ）
その他従来型硬質膜 ＴｉＮ、ＴｉＣ，ＣｒＮ
その他成膜対応
赤外線反射防止膜用ＤＬＣコーティング装置
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独自開発高密度プラズマ源（ＰＩＧプラズマ源）を装備
自公転機構によるハイレート全面成膜機構
各種赤外線光学素子の対応した充実のソフトウェア
お問い合わせ
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
神港精機株式会社 東京支店
