上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
カタログ発行日：２０１９／１２／１７
関連情報
アーク放電型高真空イオンプレーティング装置
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※詳しくはPDF資料をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
研究開発用スパッタリング装置
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標準仕様
４インチカソード３元装備による多層成膜
ターボ分子ポンプ＋油回転ポンプの高速排気
逆スパッタと基板加熱機構の標準装備による高い膜質の実現
１ｍ□のコンパクトな筐体に多機能を実現
上位機種の各部ユニットを搭載可能
研究開発用真空蒸着装置
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【その他の特長】
■コンパクトな筐体に電子蒸発源を標準装備した前扉型
・電子銃蒸発源により酸化膜や高融点金属の成膜に対応
・本格的な薄膜デバイスの研究開発・試作が可能
・複数タイプのイオンプレーティング機構も装備可能
・半導体・電子デバイスから新素材・表面処理用途まで幅広い用途で実績豊富
■全手動で抵抗加熱源を基本構成とした簡易実験型
・基板の高温加熱機構や水冷機構、またはリフトオフプロセス対応など
豊富なオプションをご用意
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
大型真空オーブン
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６００ｍｍ□×６００ｍｍＨ／バッチの大量バッチ処理
炉内全面ヒーターの均一加熱
ドライポンプ＋ターボ分子ポンプの完全ドライ排気系
高真空・低真空・大気圧の各圧力下での加熱処理対応
基板と目的に合わせて排気系・ガス系・処理温度・炉内構造・治具選択可能
真空熱処理装置（ホットプレートタイプ）
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急速加熱用熱板で３００ｍｍ□の基板の処理に対応。基板冷却機構により短時間・短タクト処理を実現。
長時間の加熱によるダメージが問題となる基板に安定した加熱プロセスを提供。
標準バッチタイプの評価を基にインラインタイプへのシステムアップが容易
横型水素アニール装置（可変雰囲気熱処理装置）
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横型石英管タイプのホットウォール型の専用アニール装置。
ターボ分子ポンプとドライ真空ポンプによるクリーンバキューム＆大気圧水素雰囲気による高純度還元熱処理を実現。
石英管急冷機構を標準装備。短タクト処理を実現。
拡張機能により６インチウェハまで対応。
水素雰囲気還元熱処理に加え高真空アニールや減圧中ガスフロー熱処理等各種モードの処理が可能。
社内実験機で大気圧水素アニールにテスト対応可能。
柔軟なハード対応と細やかなサポートが特長のニッチプロセス用アニール装置。
お問い合わせ
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神港精機株式会社 東京支店
