上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
シンプルかつコンパクトな実験用スパッタリング装置。リーズナブルな価格ながら豊富なオプション類で個別要求に細やかに対応。
小型カソード１元装備のシンプルな構成で薄膜の実験・研究用。
全手動（排気系・高周波マッチング）の基本構成ながらカソードや加熱機構は状機種の構造を踏襲。
信頼性と安定性は高いスペックに設定。
直流スパッタ・高温加熱・ドライ排気系・磁性材対応など豊富なオプションで目的プロセスに最適化が可能。
全手動（排気系・高周波マッチング）の基本構成ながらカソードや加熱機構は状機種の構造を踏襲。
信頼性と安定性は高いスペックに設定。
直流スパッタ・高温加熱・ドライ排気系・磁性材対応など豊富なオプションで目的プロセスに最適化が可能。
関連情報
簡易実験用スパッタリング装置（ＳＲＶ３１００型）
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成膜系：φ３インチカソード １元装備
：高周波電源 １源装備
：基板加熱機構標準装備
：排気系 拡散ポンプ＆油回転ポンプ
操作系：全手動
オプション機構
磁性材用カソード コンベンショナルカソード ＤＣバイアス
逆スパッタ機構 バイアススパッタ機構 基板高温加熱
主ポンプ変更（ターボ分子ポンプ採用）
全自動化
簡易実験用スパッタリング装置
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【その他の特長】
■バッチタイプ
・全手動化し低コスト化
・小型基板での少量生産に充分なプロセス性能を実現
・ハードの信頼性と膜質の安定性を実現
■簡易ロードロックタイプ
・手動搬送機構を装備
・クリーンで高い真空性能
・均一な膜厚・プラズマ・加熱分布性能
・高結晶性窒化膜(AlN)や高反射率金属膜の形成が可能
・紫外ＬＥＤ用ＡｌＮテンプレート作成
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
簡易実験用蒸着装置（ＥＭ－６４５型）
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標準２元の抵抗加熱蒸発源を装備した全手動型蒸着装置。
Φ２～３インチウェハから特殊基板まで柔軟に対応。
蒸発源追加、同時蒸着、基板冷却・高温加熱機構等豊富なオプション
社内デモ機にてサンプルテスト対応
お問い合わせ
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神港精機株式会社 東京支店
