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耐プラズマ性イットリア膜をイオンプレーティング法で低温形成 各種素材に緻密なイットリア膜を成膜可能。従来に無い最新表面処理技術
高真空中でイットリアを蒸発。独自開発イオンプレーティング法で緻密な耐プラズマ性厚膜（１０μｍ）を形成。
従来のイオンプレーティング法で不可能な酸化膜厚膜形成を実現。
ＣＶＤ法では困難な低温成膜
耐プラズマ性と膜の付き回りを実現。
他には見られないイオンプレーティングによるイットリアコーティング
従来のイオンプレーティング法で不可能な酸化膜厚膜形成を実現。
ＣＶＤ法では困難な低温成膜
耐プラズマ性と膜の付き回りを実現。
他には見られないイオンプレーティングによるイットリアコーティング
関連情報
イットリアコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）
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電子ビームによる各種材料の蒸発とアークフィラメント式イオン化法により安定して反応膜生成膜（窒化膜・酸化膜・炭化膜）を形成。
成膜レートも反応ガス流量のみで制御。シンプルで信頼性の高いハードにより最新の成膜プロセスを提供
充実の成膜プロセス
・耐プラズマ性イットリア膜（１０μｍ）
・耐酸化性硬質膜ＳｉＣ（７μｍ）
その他従来型硬質膜 ＴｉＮ、ＴｉＣ，ＣｒＮ
その他成膜対応
アークフィラメント式イオンプレーティング装置
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電子銃による各種材料の安定蒸発と新型イオン化機構による高密度プラズマで反応膜を高速形成。
各種生成膜
硬質耐酸化性膜：ＳｉＣ
耐プラズマ性膜：Ｙ²Ｏ³
硬質窒化膜 ：ＴｉＮ，ＣｒＮ，ＴｉＣ
硬質酸化膜 ：ＡＩ²Ｏ³
半導体製造装置部品の表面処理膜から精密金型の耐酸化性コーティングまで新機能表面処理用コーティング装置
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神港精機株式会社 東京支店
