上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
ＳｉＣコーティングをＰＶＤで 新開発イオンプレーティング装置で緻密で耐摩耗性に優れたＳｉＣ膜を形成。低温でＳｉＣ成膜を実現
電子銃による個体シリコンの蒸発と導入ガスとの反応で緻密なＳｉＣコーティングを実現。
低温で排ガス処理の不要な低コスト・低ランニングコスト・低環境負荷の最新成膜技術。
従来不可能だった材質にＳｉＣコーティングにより新たな機能を付加。
耐摩耗性・耐食性・耐酸化性を実現する新たなコーティング装置。
低温で排ガス処理の不要な低コスト・低ランニングコスト・低環境負荷の最新成膜技術。
従来不可能だった材質にＳｉＣコーティングにより新たな機能を付加。
耐摩耗性・耐食性・耐酸化性を実現する新たなコーティング装置。
関連情報
ＳｉＣコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）
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電子銃による個体シリコンの蒸着を基本としたイオンプレーティング装置。
高密度のプラズマを形成できるシンプルなイオン化機構によりシリコン上記と反応ガスとのリアクティブプロセスを実現。
基板の形状や成膜の目的に合わせて基板設置方法や治具も専用設計。
立体形状基板の全面成膜やマスク成膜も可能。
クリーンで操作容易な全自動イオンプレーティング装置。
イットリアコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）
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電子ビームによる各種材料の蒸発とアークフィラメント式イオン化法により安定して反応膜生成膜（窒化膜・酸化膜・炭化膜）を形成。
成膜レートも反応ガス流量のみで制御。シンプルで信頼性の高いハードにより最新の成膜プロセスを提供
充実の成膜プロセス
・耐プラズマ性イットリア膜（１０μｍ）
・耐酸化性硬質膜ＳｉＣ（７μｍ）
その他従来型硬質膜 ＴｉＮ、ＴｉＣ，ＣｒＮ
その他成膜対応
アークフィラメント式イオンプレーティング装置
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電子銃による各種材料の安定蒸発と新型イオン化機構による高密度プラズマで反応膜を高速形成。
各種生成膜
硬質耐酸化性膜：ＳｉＣ
耐プラズマ性膜：Ｙ²Ｏ³
硬質窒化膜 ：ＴｉＮ，ＣｒＮ，ＴｉＣ
硬質酸化膜 ：ＡＩ²Ｏ³
半導体製造装置部品の表面処理膜から精密金型の耐酸化性コーティングまで新機能表面処理用コーティング装置
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神港精機株式会社 東京支店
