サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社/Thermo Fisher Scientific K.K.

半導体製造プロセスの微量分析に貢献する イオンクロマトグラフィーメソッド

最終更新日: 2022-11-22 13:52:22.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

微量イオン、遷移金属の測定などプロセス汚染を迅速に特定 高い分離性能、確立された手法による高品質な分析結果
半導体製造プロセスや完成したデバイスにとって、イオン汚染は腐食、浸食、短絡の原因となる恐れがあるため、大きな懸念です。
イオンクロマトグラフィー(IC)は、半導体業界におけるさまざまなプロセス汚染物質の微量成分と、主要成分を迅速に測定できる効率
的な分析手法です。当社のイオンクロマトグラフィーシステムがどのように活用できるかをご紹介いたします。
※詳細はPDFをご覧いただくかお気軽にお問い合わせください。

関連情報

イオンクロマトグラフ『Dionex Inuvion』
イオンクロマトグラフ『Dionex Inuvion』 製品画像
【その他の特長】

■高圧ポンプ(最大5000 psi)に小粒子径カラムでも流量を増やせるため分析時間を短縮、分離能を高められる
■RFIC溶離液ジェネレーターシステムにより日々の作業時間を短縮
■電解サプレッションにより再生液の手調整が不要
■直感的で使いやすいユーザーインターフェース
■地域言語サポート
■IC PEEK Viperフィッティングにより工具不要で取り付け可能
■一体型のカラムヒーターによりラボの温度変化の影響を最小限に抑える(オプション)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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