ティー・ケイ・エス株式会社

スパッタリング装置『FHR.Star.600-EOSS』

最終更新日: 2021-02-08 21:17:28.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

関連情報

高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置
高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置 製品画像
装置基本仕様
■シリンダー型カソードとターゲットの採用
 ▶ターゲット寿命は長く、その寿命末期まで成膜レートの変動は極小
■最大4基のカソードを搭載可能
 ▶各種ターゲットの組み合わせによる、幅広い光学特性フィルターの生産が可能
■リアクティブ成膜用イオンソースを搭載
 ▶成膜時のイオン照射による基板上での酸化膜・窒化膜の成膜が可能。
■大型基板への成膜
 ▶300mm もしくは 280×330×50 mm サイズの基盤(フラット、曲面)まで対応
 ▶基盤加熱機構も組み込み可能

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