ティー・ケイ・エス株式会社

AVP HR-PVD 日本語

最終更新日: 2024-04-12 10:41:56.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

関連情報

高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD)
高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD) 製品画像
リモートプラズマイオンソース採用
グリッドレスソースとターゲットバイアスを組み合わせた画期的スパッタ法
▸高い直進性による異方性成膜の実現
▸リモートプラズマによる低温成膜の実現
▸グリッドレス構造によるメンテナンスコスト低減の実現
▸ターゲット利用効率の向上によるランニングコスト削減を実現

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