リモートプラズマイオンソース採用
グリッドレスソースとターゲットバイアスを組み合わせた画期的スパッタ法
▸高い直進性による異方性成膜の実現
▸リモートプラズマによる低温成膜の実現
▸グリッドレス構造によるメンテナンスコスト低減の実現
▸ターゲット利用効率の向上によるランニングコスト削減を実現
グリッドレスソースとターゲットバイアスを組み合わせた画期的スパッタ法
▸高い直進性による異方性成膜の実現
▸リモートプラズマによる低温成膜の実現
▸グリッドレス構造によるメンテナンスコスト低減の実現
▸ターゲット利用効率の向上によるランニングコスト削減を実現