ユニテンプジャパン株式会社

ギ酸還元リフロー装置【課題解決事例:基板内の温度ばらつき】

最終更新日: 2024-03-27 15:25:59.0
ユニテンプのリフロー装置で解決!高速昇温を実現!予期しない温度によるダメージへの心配が無くなります!

最近の基板には、極めて小さなチップ部品や大型の部品、またモジュール基板や
BGAパッケージなど、多岐にわたる部品が実装されています。

それぞれ熱容量が違うので、大きい部品の温度が上がるころには小さい部品の
耐熱温度を超えてしまい、不良の原因になることがあります。そうしたことが
頻発すると、歩留まりにも影響しかねません。

当社のリフロー装置では、加熱プレート上の温度を高速昇温させることが
できる上、オーバーシュートを起こさない設計なので、プリント基板や
実装部品にかかる熱ストレスを低減。

また、加熱プレート全体が均一な温度になるよう自動制御するので、
基板など対象物にかかる温度のばらつきも抑えることができます。

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報

【事例概要】
■課題:基板内の温度ばらつき
■解決方法
・適切な熱エネルギーを与えることで、オーバーシュートしづらい環境を提供
・ヒーターを独自のアルゴリズムにより制御することで、加熱プレート上の
 面内温度ばらつきが±1.5%以内に収まるように設計

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