最終更新日:
2024-10-28 10:17:16.0
【無料プレゼント】MIRS法を応用した新たなアプローチである製品をご紹介
シリコンウェハー (Si ウェハー)表面の特性は、材料としての機能性に
大きく影響し、とくにウェハー表面に形成される各種薄膜の化学的評価が
ますます重要となっています。
当資料で紹介する「Wafer ATR」は、いわゆるMIRS法を応用した新たな
アプローチであり、フランス原子力庁電子情報研究所CEA-Letiの
グループとの研究成果を製品化したものです。
【掲載内容】
■はじめに
■Wafer ATR(ウェハーATR)
・多重内部反射による感度の向上
・測定時の必要事項
■測定例
■判別分析
■まとめ
■参考文献
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
【製品特長】
<ハイエンドFT-IR：VERTEX シリーズ>
■最大限の柔軟性を持つよう設計
■アップグレードが可能な光学プラットフォームで構成
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
関連カタログ
お問い合わせ
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
ブルカージャパン株式会社 オプティクス事業部
