最終更新日:
2023-08-09 15:44:47.0
真空タイプの昇温脱離装置を取り扱っており、様々な分野で利用可能!
『昇温脱離分析法』は、古くは触媒分野で酸点・塩基点を
評価するために使用されてきた方法です。
一旦、触媒の温度を高温まで上昇させ吸着しているガスを除去し、
その後NH3やCO2を吸着。
その触媒を、再度プログラミングした条件で昇温させることでNH3やCO2を
再離脱させ、その脱離量から酸点・塩基点を評価します。
【利用分野】
■半導体分野において材料評価やプロセス設計支援
■各種薄膜(撥水、光学、対摩耗、光触媒)
■構造材料(ガラスファイバ、真空部品、セラミックス)
■吸蔵材料(水素吸蔵)など
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯 | お問い合わせください |
---|---|
納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
関連カタログ
お問い合わせ
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
電子科学株式会社