最終更新日:
2021-10-07 17:47:35.0
XPSを使用して簡易的に測定することが可能!酸化物系以外の半導体もお問合せください
アイテスでは、『XPSによるバンドギャップの簡易測定』を行っています。
半導体や絶縁物の中で、比較的バンドギャップが広い物質や薄膜の
バンドギャップを、XPSを使用して簡易的に測定することが可能。
β-Ga2O3のバンドギャップをO1sのピークを使用して測定を行った際は、
O1sのピーク位置とバンドギャップによるエネルギー損失の端部との差より
このβ-Ga2O3のバンドギャップは、約4.9eVと測定されました。
【特長】
■XPSを使用して簡易的に測定できる
■バンドギャップの広いSiON等の薄膜の簡易測定も可能
■酸化物系以外の半導体も対応
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
【測定例】
■Ga2O3のバンドギャップ:O1sを測定
■SiCのバンドギャップ:Si2pを測定
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯 | お問い合わせください |
---|---|
納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
お問い合わせ
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
株式会社アイテス