株式会社日本レーザー

『ナノ位置決めステージ』『レーザ干渉式変位センサ』

最終更新日: 2024-02-26 16:12:32.0
ナノオーダーの高精度位置決めと、1ピコメートルのセンサ分解能による変位測定で、高品質の半導体製造を実現

当社は、attocube社製の半導体製造装置向け『ナノ位置決めステージ』や
『レーザ干渉式変位センサ』を取り扱っています。

高精度の位置決めを実現でき、数kgの荷重量に対応したステージなど
様々なニーズに応えられる製品をラインアップ。
クローズドループ制御に対応しており、精密な制御を実現可能です。
非常にコンパクトで、装置への組み込みも容易に行えます。

【製品ラインアップ】
『ナノ位置決めステージ』
■高真空・超真空対応
■過酷な環境下でも高精度・高分解能での位置決め
■最大6軸までのステージを構築可能

『レーザ干渉式変位センサ IDS3010』
■ピコメートルオーダーの高精度・高分解能
■10MHzの超高速動作、最大5mの作動距離
■様々な材質、超高真空・高磁場などの環境に対応

※詳しくはカタログをご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

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基本情報

【ナノポジショナ&高精度ステージ】
*超高真空・高磁場・非磁性対応
*耐荷重:ナノメートルスケール分解能で数kgまで可能
*クローズドループ制御可能:高速、高分解能、高い位置再現性

【干渉式リニア変位センサ】
*ピコオーダー分解能と長い作動距離(5m)
*超高速(10MHz)
*多様な材質や極端環境(超高真空、高磁場)に対応

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 【工作機械(QA, QC)】
*ステージガイドによる超精密インライン・トラベルリアルタイム特性制御
*工作機械とCMMの自動体積補正
*センサ内蔵によるモーションキャプチャ
*三次元測定機のモーショントラッキング
*振動と微動の監視・分析・補正

【半導体製造装置】
*ウェハステージのダイナミックモーションコントロール
*測定・検査のためのビームアライメント
*ウェハ平坦度測定
*リソグラフィと測定プロセスにおけるビームアパーチャとフィルタの位置決め
*フォトリソグラフィにおける超精密ポジショントラッキング

【フォトニクス】
*ファイバアレイの超精密位置決め
*光計測におけるレーザービームステアリングや光学部品のアライメント
*高分解能顕微鏡内の位置決めやアライメント

お問い合わせ

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